半导体器件及其制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN200910252657.6
申请日
2009-12-03
公开(公告)号
CN101752421A
公开(公告)日
2010-06-23
发明(设计)人
李相容
申请人
申请人地址
韩国首尔
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L2906 H01L21336
代理机构
隆天国际知识产权代理有限公司 72003
代理人
姜燕;邢雪红
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
李孟烈 .
中国专利 :CN102593119B ,2012-07-18
[2]
半导体器件及制造半导体器件的方法 [P]. 
浅野正义 ;
三谷纯一 .
中国专利 :CN102623489A ,2012-08-01
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半导体器件及其制造方法 [P]. 
杨海宁 ;
李伟健 .
中国专利 :CN101093832A ,2007-12-26
[4]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
高尧焕 ;
崔珍赫 .
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[5]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
舛冈富士雄 ;
中村广记 .
中国专利 :CN101847636B ,2010-09-29
[6]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
江国诚 ;
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中国专利 :CN104347630B ,2015-02-11
[7]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
江国诚 ;
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[8]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
施金汕 ;
黄琳洁 ;
朱春林 ;
姜克 .
中国专利 :CN119967829A ,2025-05-09
[9]
半导体器件和半导体器件制造方法 [P]. 
砂村润 ;
金子贵昭 ;
古武直也 ;
齐藤忍 ;
林喜宏 .
中国专利 :CN103681673A ,2014-03-26
[10]
半导体器件及其方法 [P]. 
乔瓦尼·卡拉布雷塞 ;
多玛格杰·西普拉克 ;
沃尔夫冈·莫尔泽尔 ;
乌韦·霍戴尔 .
中国专利 :CN102054872A ,2011-05-11