低温多晶硅薄膜晶体管阵列基板及其制作方法

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专利类型
发明
申请号
CN201110140282.1
申请日
2011-05-27
公开(公告)号
CN102709283A
公开(公告)日
2012-10-03
发明(设计)人
马占洁
申请人
申请人地址
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
IPC主分类号
H01L2702
IPC分类号
H01L2177
代理机构
北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270
代理人
武晨燕;周义刚
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
低温多晶硅薄膜晶体管阵列基板及其制作方法 [P]. 
马占洁 .
中国专利 :CN102709284A ,2012-10-03
[2]
低温多晶硅薄膜晶体管阵列基板及其制作方法 [P]. 
赵雁飞 ;
李建文 ;
魏博 .
中国专利 :CN106373922A ,2017-02-01
[3]
低温多晶硅薄膜晶体管阵列基板及其制作方法 [P]. 
周万亮 .
中国专利 :CN109686745A ,2019-04-26
[4]
低温多晶硅薄膜晶体管阵列基板及其制备方法 [P]. 
赵瑜 .
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[5]
低温多晶硅薄膜晶体管阵列基板及其制造方法 [P]. 
陈辰 .
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[6]
低温多晶硅、薄膜晶体管及阵列基板的制作方法 [P]. 
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[7]
薄膜晶体管阵列基板、低温多晶硅薄膜晶体管及制造方法 [P]. 
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[8]
低温多晶硅薄膜晶体管的制作方法及低温多晶硅薄膜晶体管 [P]. 
周星宇 ;
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[9]
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[10]
低温多晶硅薄膜晶体管阵列基板及其制作方法、显示装置 [P]. 
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