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提高外延生长氮化镓晶体质量的方法及其应用
被引:0
申请号
:
CN202011171599.7
申请日
:
2020-10-28
公开(公告)号
:
CN114420532A
公开(公告)日
:
2022-04-29
发明(设计)人
:
王国斌
王建峰
徐科
申请人
:
申请人地址
:
215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城中北区23幢214室
IPC主分类号
:
H01L2102
IPC分类号
:
C30B2516
C30B2518
C30B2814
C30B2940
代理机构
:
南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256
代理人
:
赵世发;王锋
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-04-29
公开
公开
2022-05-20
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20201028
共 50 条
[1]
提高外延生长氮化镓晶体质量的方法及其应用
[P].
王国斌
论文数:
0
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0
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机构:
江苏第三代半导体研究院有限公司
江苏第三代半导体研究院有限公司
王国斌
;
王建峰
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机构:
江苏第三代半导体研究院有限公司
江苏第三代半导体研究院有限公司
王建峰
;
徐科
论文数:
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0
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机构:
江苏第三代半导体研究院有限公司
江苏第三代半导体研究院有限公司
徐科
.
中国专利
:CN114420532B
,2025-04-25
[2]
晶体质量可控的氮化镓薄膜外延生长方法
[P].
甘志银
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甘志银
;
张荣军
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张荣军
;
汪沛
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汪沛
;
严晗
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严晗
.
中国专利
:CN104347761B
,2015-02-11
[3]
用于外延生长氮化镓晶体的复合衬底及氮化镓外延结构
[P].
王国斌
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王国斌
;
王建峰
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王建峰
;
徐科
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徐科
.
中国专利
:CN213459739U
,2021-06-15
[4]
一种提高氮化镓晶体质量的制备方法
[P].
陈庆
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陈庆
;
孙丽枝
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孙丽枝
.
中国专利
:CN105483828A
,2016-04-13
[5]
生长氮化镓晶体的方法
[P].
冈久拓司
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冈久拓司
;
元木健作
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元木健作
;
上松康二
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上松康二
;
中畑成二
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中畑成二
;
弘田龙
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弘田龙
;
井尻英幸
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井尻英幸
;
笠井仁
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笠井仁
;
藤田俊介
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藤田俊介
;
佐藤史隆
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佐藤史隆
;
松冈彻
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松冈彻
.
中国专利
:CN101086963A
,2007-12-12
[6]
生长氮化镓晶体的方法
[P].
弘田龙
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弘田龙
;
元木健作
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元木健作
;
中畑成二
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中畑成二
;
冈久拓司
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冈久拓司
;
上松康二
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上松康二
.
中国专利
:CN101144182A
,2008-03-19
[7]
提高氮化铝材料晶体质量的外延生长方法及氮化铝材料
[P].
孙钱
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孙钱
;
黄应南
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黄应南
;
刘建勋
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刘建勋
;
孙秀建
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孙秀建
;
詹晓宁
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詹晓宁
;
高宏伟
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高宏伟
;
杨辉
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杨辉
.
中国专利
:CN113279054A
,2021-08-20
[8]
一种提高碳化硅衬底上氮化镓晶体质量的生长方法
[P].
李毓锋
论文数:
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机构:
山东浪潮华光光电子股份有限公司
山东浪潮华光光电子股份有限公司
李毓锋
;
王成新
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机构:
山东浪潮华光光电子股份有限公司
山东浪潮华光光电子股份有限公司
王成新
;
郑军
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机构:
山东浪潮华光光电子股份有限公司
山东浪潮华光光电子股份有限公司
郑军
;
马光宇
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机构:
山东浪潮华光光电子股份有限公司
山东浪潮华光光电子股份有限公司
马光宇
.
中国专利
:CN120967503A
,2025-11-18
[9]
一种提高外延晶体质量的外延生长方法
[P].
商毅博
论文数:
0
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商毅博
.
中国专利
:CN104485399B
,2015-04-01
[10]
同质外延生长的氮化镓的方法及氮化镓材料
[P].
蔡亚伟
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蔡亚伟
;
张育民
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张育民
;
夏嵩渊
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夏嵩渊
;
王建峰
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王建峰
;
徐科
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徐科
.
中国专利
:CN114496749A
,2022-05-13
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