光刻胶厚度的确定方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610948510.0

申请日：

2016-11-02

公开(公告)号：

CN106323181A

公开(公告)日：

2017-01-11

发明(设计)人：

周兵兵

申请人：

申请人地址：

215600 江苏省苏州市张家港经济技术开发区南区南园路和新丰东路交叉口

IPC主分类号：

G01B1106

IPC分类号：

代理机构：

北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489

代理人：

曹军

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-02-22	授权	授权
2017-01-11	公开	公开
2017-02-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101702035254 IPC(主分类):G01B 11/06 专利申请号:2016109485100 申请日:20161102

共 50 条

[1]

优化光刻胶厚度的方法 [P].

蔡航 .

中国专利 :CN119861534A ,2025-04-22

[2]

用于生成光刻胶图案的光刻胶模型的确定方法和装置 [P].

马星宇 ;

郝少刚 ;

张胜誉 .

中国专利 :CN118732409A ,2024-10-01

[3]

光刻胶厚度异常的检测方法 [P].

杨晓松 ;

易旭东 .

中国专利 :CN106154755A ,2016-11-23

[4]

光刻胶厚度的调整方法及系统 [P].

林锺吉 ;

宋載榮 .

中国专利 :CN120370630A ,2025-07-25

[5]

光刻胶涂布方法 [P].

周顺杰 ;

田亮亮 ;

龚燕飞 .

中国专利 :CN119126494A ,2024-12-13

[6]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

[7]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[8]

饶夙缔 ;

陈孝贤 .

中国专利 :CN110174819B ,2019-08-27

[9]

自动控制光刻胶厚度的方法和系统 [P].

乔辉 ;

罗大杰 .

中国专利 :CN102122116B ,2011-07-13

[10]

光刻胶及光刻方法 [P].

袁华 ;

黄永发 ;

杨尚勇 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110501873A ,2019-11-26

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