半导体器件及其制造方法、以及电镀液

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专利类型
发明
申请号
CN02815790.7
申请日
2002-08-12
公开(公告)号
CN1545728A
公开(公告)日
2004-11-10
发明(设计)人
井上裕章 木村宪雄 王新明 松本守治 金山真
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
H01L21768
IPC分类号
H01L21288 C23C1832
代理机构
永新专利商标代理有限公司
代理人
胡建新
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件和制造方法以及电镀液 [P]. 
上野和良 .
中国专利 :CN100483648C ,2003-11-05
[2]
半导体器件和制造方法以及电镀液 [P]. 
上野和良 .
中国专利 :CN1652310A ,2005-08-10
[3]
半导体器件和制造方法以及电镀液 [P]. 
上野和良 .
中国专利 :CN100456438C ,2005-08-10
[4]
半导体器件以及其制造方法 [P]. 
松本雅弘 ;
前川和义 ;
河野祐一 .
中国专利 :CN105720027A ,2016-06-29
[5]
半导体器件以及制造半导体器件的方法 [P]. 
金炳烈 ;
大谷洋一 ;
陈晓萌 .
中国专利 :CN101140933B ,2008-03-12
[6]
半导体器件以及半导体器件的制造方法 [P]. 
幸康一郎 ;
斋藤彻 ;
久保实 ;
大仲清司 ;
浅井明 ;
片山幸治 .
中国专利 :CN1260595A ,2000-07-19
[7]
半导体器件及其制造方法以及包括半导体器件的半导体封装 [P]. 
河相守 ;
金建来 ;
朴哲贤 ;
白寅学 ;
申尚澈 .
中国专利 :CN110034084A ,2019-07-19
[8]
制造半导体器件的方法以及电镀装置 [P]. 
有田幸司 ;
北尾良平 .
中国专利 :CN101114590A ,2008-01-30
[9]
半导体器件以及其制造方法 [P]. 
鸟居克行 .
中国专利 :CN101040386A ,2007-09-19
[10]
半导体器件以及其制造方法 [P]. 
T.迈尔 ;
W.施韦特利克 .
中国专利 :CN104465656B ,2015-03-25