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一种钨硅靶材及其溅射面的抛光方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202110003425.8
申请日：
2021-01-04
公开(公告)号：
CN112809455A
公开(公告)日：
2021-05-18
发明(设计)人：
姚力军
边逸军
潘杰
王学泽
李岢
申请人：
申请人地址：
315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
IPC主分类号：
B24B100
IPC分类号：
B24B4900
B24B2100
B24B5502
C23C1434
代理机构：
北京远智汇知识产权代理有限公司 11659
代理人：
王岩
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-06-04 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 1/00 申请日:20210104 |
| 2021-05-18 | 公开 | 公开 |