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一种在硅衬底上形成单晶碳化硅薄膜的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202111217293.5
申请日
:
2021-10-19
公开(公告)号
:
CN113957535B
公开(公告)日
:
2022-01-21
发明(设计)人
:
林健峯
申请人
:
申请人地址
:
广东省深圳市福田区福田街道口岸社区同庆路9号廊桥国际B座19B
IPC主分类号
:
C30B2936
IPC分类号
:
C30B2502
C30B2510
C30B2514
代理机构
:
东莞市卓越超群知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 44462
代理人
:
徐建秀
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-02-15
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 29/36 申请日:20211019
2022-12-27
授权
授权
2022-01-21
公开
公开
共 50 条
[1]
在硅衬底上形成碳化硅的方法
[P].
罗兰·皮舍
论文数:
0
引用数:
0
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0
罗兰·皮舍
;
斯蒂芬·迪格鲁特
论文数:
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斯蒂芬·迪格鲁特
;
乔夫·德卢伊
论文数:
0
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0
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乔夫·德卢伊
.
中国专利
:CN111512416A
,2020-08-07
[2]
一种在硅衬底上制备β‑碳化硅薄膜的方法
[P].
赵志飞
论文数:
0
引用数:
0
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0
赵志飞
;
李赟
论文数:
0
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0
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李赟
;
朱志明
论文数:
0
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0
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0
朱志明
.
中国专利
:CN104561926B
,2015-04-29
[3]
一种优化的在硅衬底上外延生长β-碳化硅薄膜的方法
[P].
赵志飞
论文数:
0
引用数:
0
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0
赵志飞
;
李赟
论文数:
0
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李赟
;
朱志明
论文数:
0
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0
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0
朱志明
.
中国专利
:CN105140102B
,2015-12-09
[4]
用硅衬底β碳化硅晶体薄膜生长碳化硅单晶体
[P].
陈治明
论文数:
0
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0
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0
陈治明
.
中国专利
:CN1072282C
,1999-07-28
[5]
采用离子注入在单晶硅衬底上形成碳化硅薄层的方法
[P].
陈炯
论文数:
0
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0
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0
陈炯
.
中国专利
:CN102034906A
,2011-04-27
[6]
在蓝宝石衬底上异质外延生长碳化硅薄膜的方法
[P].
郝跃
论文数:
0
引用数:
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郝跃
;
彭军
论文数:
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引用数:
0
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彭军
.
中国专利
:CN1369904A
,2002-09-18
[7]
在硅衬底上生长碳化硅\氮化镓材料的方法
[P].
陈诺夫
论文数:
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0
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陈诺夫
;
杨霏
论文数:
0
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0
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0
杨霏
.
中国专利
:CN1719581A
,2006-01-11
[8]
电容耦合等离子体装置及在硅衬底上生长碳化硅薄膜的方法
[P].
姜岩峰
论文数:
0
引用数:
0
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0
姜岩峰
.
中国专利
:CN101363118A
,2009-02-11
[9]
一种具有单晶碳化硅衬底的复合衬底
[P].
李京波
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
浙江芯科半导体有限公司
浙江芯科半导体有限公司
李京波
;
张梦龙
论文数:
0
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0
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机构:
浙江芯科半导体有限公司
浙江芯科半导体有限公司
张梦龙
;
柯茜
论文数:
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0
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0
机构:
浙江芯科半导体有限公司
浙江芯科半导体有限公司
柯茜
.
中国专利
:CN118048688A
,2024-05-17
[10]
制造碳化硅单晶的方法和碳化硅单晶衬底
[P].
本家翼
论文数:
0
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本家翼
;
冲田恭子
论文数:
0
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0
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冲田恭子
;
川濑智博
论文数:
0
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川濑智博
;
堀勉
论文数:
0
引用数:
0
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0
堀勉
.
中国专利
:CN104278322A
,2015-01-14
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