一种制作高选择性半导体薄膜材料的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010247733.7
申请日
2010-08-06
公开(公告)号
CN102375029A
公开(公告)日
2012-03-14
发明(设计)人
李冬梅 周文 刘明 侯成诚 汪幸 闫学锋 谢常青 霍宗亮
申请人
申请人地址
100029 北京市朝阳区北土城西路3号
IPC主分类号
G01N2902
IPC分类号
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
周国城
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
一种制作高选择性半导体薄膜方法 [P]. 
叶甜春 ;
闫学锋 ;
李冬梅 ;
刘明 ;
侯成诚 ;
周文 ;
汪幸 .
中国专利 :CN102375028A ,2012-03-14
[2]
一种制作半导体薄膜材料的方法 [P]. 
李冬梅 ;
汪幸 ;
刘明 ;
周文 ;
侯成诚 ;
闫学锋 ;
谢常青 ;
霍宗亮 .
中国专利 :CN102375030A ,2012-03-14
[3]
一种高选择性半导体薄膜的制作方法 [P]. 
李冬梅 ;
刘明 ;
谢常青 ;
叶甜春 ;
阎学锋 ;
霍宗亮 ;
龙世兵 ;
张满红 .
中国专利 :CN102376890A ,2012-03-14
[4]
一种制作半导体薄膜的方法 [P]. 
李冬梅 ;
汪幸 ;
刘明 ;
周文 ;
侯成诚 ;
闫学锋 ;
谢常青 ;
霍宗亮 .
中国专利 :CN102376889B ,2012-03-14
[5]
一种制作复合半导体薄膜材料的方法 [P]. 
李冬梅 ;
侯成诚 ;
刘明 ;
周文 ;
汪幸 ;
闫学锋 ;
谢常青 ;
霍宗亮 .
中国专利 :CN102373470B ,2012-03-14
[6]
半导体衬底及选择性生长半导体的方法 [P]. 
王安琦 ;
程志渊 ;
陈韬 .
中国专利 :CN105140267A ,2015-12-09
[7]
半导体薄膜的选择性外延形成 [P]. 
M·鲍尔 ;
K·D·韦克斯 .
中国专利 :CN101454874B ,2009-06-10
[8]
一种半导体薄膜材料 [P]. 
郑之永 ;
谢致薇 ;
张雅丽 ;
杨元政 ;
许佳雄 .
中国专利 :CN107604333B ,2018-01-19
[9]
半导体材料的选择性精确蚀刻 [P]. 
南森·马塞尔怀特 ;
朱济 ;
杰罗姆·米歇尔·多米尼克·美莱特 ;
大卫·穆伊 ;
马克·直司·川口 ;
阿德里安·拉沃伊 .
中国专利 :CN115668463A ,2023-01-31
[10]
一种半导体衬底及选择性生长半导体材料的方法 [P]. 
程志渊 ;
陈韬 ;
王安琦 .
中国专利 :CN105140103A ,2015-12-09