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半导体部件、垂直MOSFET、IGBT结构和集成半导体器件
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201320118299.1
申请日
:
2013-03-15
公开(公告)号
:
CN203242627U
公开(公告)日
:
2013-10-16
发明(设计)人
:
M.菲莱迈耶
W.佩因霍普夫
申请人
:
申请人地址
:
奥地利菲拉赫
IPC主分类号
:
H01L2906
IPC分类号
:
H01L2910
H01L2978
H01L29739
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
马丽娜;李浩
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-03-02
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 29/06 申请日:20130315 授权公告日:20131016 终止日期:20200315
2013-10-16
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体部件、垂直MOSFET、IGBT结构和集成半导体器件
[P].
M.维莱迈耶
论文数:
0
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0
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0
M.维莱迈耶
;
O.布兰克
论文数:
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0
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O.布兰克
.
中国专利
:CN203242628U
,2013-10-16
[2]
IGBT半导体器件以及半导体器件
[P].
M·库鲁西
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M·库鲁西
;
J·瓦韦罗
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0
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0
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J·瓦韦罗
.
中国专利
:CN206697484U
,2017-12-01
[3]
半导体器件结构
[P].
不公告发明人
论文数:
0
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0
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不公告发明人
.
中国专利
:CN209029381U
,2019-06-25
[4]
半导体器件和半导体装置
[P].
K.霍赛尼
论文数:
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K.霍赛尼
;
A.毛德
论文数:
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A.毛德
.
中国专利
:CN203521403U
,2014-04-02
[5]
半导体器件和包括该半导体器件的集成装置
[P].
F.希尔勒
论文数:
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F.希尔勒
;
U.瓦尔
论文数:
0
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0
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U.瓦尔
.
中国专利
:CN203800054U
,2014-08-27
[6]
半导体集成电路和半导体器件
[P].
桧谷光春
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桧谷光春
;
长泽俊夫
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长泽俊夫
;
田村晃洋
论文数:
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田村晃洋
.
中国专利
:CN1773726A
,2006-05-17
[7]
半导体器件和半导体部件
[P].
B·帕德玛纳伯翰
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B·帕德玛纳伯翰
;
P·文卡特拉曼
论文数:
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P·文卡特拉曼
.
中国专利
:CN206041966U
,2017-03-22
[8]
半导体结构和半导体器件
[P].
李翠
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
李翠
;
金锐
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
金锐
;
田宝华
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0
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
田宝华
;
和峰
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
和峰
;
聂瑞芬
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
聂瑞芬
;
李哲洋
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
李哲洋
;
崔翔
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
崔翔
;
徐琮玮
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机构:
北京怀柔实验室
北京怀柔实验室
徐琮玮
.
中国专利
:CN120302692A
,2025-07-11
[9]
半导体器件
[P].
松井孝二郎
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松井孝二郎
;
阪本雄彦
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阪本雄彦
;
梅津和之
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梅津和之
;
宇野友彰
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宇野友彰
.
中国专利
:CN204204847U
,2015-03-11
[10]
半导体器件
[P].
山越英明
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山越英明
;
冈保志
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冈保志
;
冈田大介
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0
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冈田大介
.
中国专利
:CN102201415A
,2011-09-28
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