单晶硅片碱抛清洗方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201811077772.X
申请日
2018-09-16
公开(公告)号
CN109326683A
公开(公告)日
2019-02-12
发明(设计)人
衣玉林
申请人
申请人地址
215300 江苏省苏州市昆山开发区前进东路帝宝金融大厦20楼
IPC主分类号
H01L3118
IPC分类号
H01L2102
代理机构
代理人
法律状态
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
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共 50 条
[21]
超声波清洗单晶硅片方法及其装置 [P]. 
汪贵发 ;
楼春兰 ;
郑辉 ;
汪新平 .
中国专利 :CN100481324C ,2008-05-14
[22]
单晶硅片专用超声清洗装置 [P]. 
吕凤岗 ;
程林 ;
曹来福 ;
戴珍旭 ;
胡正田 .
中国专利 :CN206009340U ,2017-03-15
[23]
太阳能单晶硅片清洗液及清洗方法 [P]. 
薛晓敏 ;
孙翠枝 .
中国专利 :CN103464415B ,2013-12-25
[24]
一种单晶硅片清洗机及清洗单晶硅片的方法 [P]. 
缪云 .
中国专利 :CN114792641A ,2022-07-26
[25]
单晶硅片及单晶硅片的处理方法 [P]. 
李厚 ;
陆爱军 ;
徐雪明 .
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[26]
单晶硅片盒 [P]. 
钟平 .
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[27]
单晶硅片的清洗工艺 [P]. 
孙亮湖 .
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[28]
单晶硅片的清洗装置 [P]. 
邱小永 .
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[29]
一种单晶硅片衬底喷砂后清洗方法 [P]. 
张庆旭 ;
吴雄杰 ;
蒋慧 ;
代明明 ;
余水强 ;
欧亦峰 ;
李晓庭 ;
吕文静 ;
徐子洋 ;
朱建勇 .
中国专利 :CN117711911A ,2024-03-15
[30]
一种超大尺寸单晶硅片的清洗方法 [P]. 
王冬雪 ;
孙小杰 ;
王大伟 ;
黄磊 ;
郭成钢 .
中国专利 :CN110665893B ,2020-01-10