基板处理装置、处理液以及基板处理方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201980049434.1
申请日
2019-07-10
公开(公告)号
CN112514032A
公开(公告)日
2021-03-16
发明(设计)人
奥谷学 阿部博史 屋敷启之
申请人
申请人地址
日本京都府
IPC主分类号
H01L21304
IPC分类号
代理机构
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
宋晓宝;向勇
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
基板处理装置、处理液以及基板处理方法 [P]. 
奥谷学 ;
阿部博史 ;
屋敷启之 .
日本专利 :CN119208198A ,2024-12-27
[2]
基板处理装置、处理液以及基板处理方法 [P]. 
奥谷学 ;
阿部博史 ;
屋敷启之 .
日本专利 :CN119208197A ,2024-12-27
[3]
基板处理装置、处理液以及基板处理方法 [P]. 
奥谷学 ;
阿部博史 ;
屋敷启之 .
日本专利 :CN112514032B ,2024-11-01
[4]
基板处理方法、基板处理液以及基板处理装置 [P]. 
佐佐木悠太 ;
塙洋祐 .
中国专利 :CN109560014A ,2019-04-02
[5]
基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
田中友耶 ;
尾辻正幸 ;
田中孝佳 .
日本专利 :CN116656166B ,2025-11-04
[6]
基板液处理装置、基板液处理方法以及基板处理装置 [P]. 
张健 ;
天野嘉文 ;
冈本英一郎 ;
伊藤优树 .
中国专利 :CN105845603B ,2016-08-10
[7]
基板处理方法、基板处理装置以及处理液 [P]. 
国枝省吾 ;
佐佐木悠太 ;
塙洋祐 .
日本专利 :CN117981057A ,2024-05-03
[8]
基板液处理装置以及基板液处理方法 [P]. 
佐藤秀明 .
中国专利 :CN105983549B ,2016-10-05
[9]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
谷泽成规 ;
宫路信行 ;
髙冈诚 ;
泽崎尚树 ;
奥村刚 ;
三浦淳靖 .
中国专利 :CN109427548A ,2019-03-05
[10]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
尾辻正幸 .
中国专利 :CN108305842B ,2018-07-20