基板处理装置、处理液以及基板处理方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201980049434.1
申请日
2019-07-10
公开(公告)号
CN112514032A
公开(公告)日
2021-03-16
发明(设计)人
奥谷学 阿部博史 屋敷启之
申请人
申请人地址
日本京都府
IPC主分类号
H01L21304
IPC分类号
代理机构
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
宋晓宝;向勇
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[41]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
藤原友则 ;
柴山宣之 ;
吉田幸史 ;
柴田哲弥 ;
仲野彰义 .
中国专利 :CN110690146A ,2020-01-14
[42]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
时末尚悟 ;
冈本悟史 ;
猿渡健 ;
北村藤和 ;
久保友辅 ;
吉田幸史 .
日本专利 :CN120770067A ,2025-10-10
[43]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
堀越章 ;
中村昭平 ;
高辻茂 ;
河野元宏 ;
木村贵弘 ;
小林健司 .
日本专利 :CN112631089B ,2025-05-13
[44]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
合田和树 ;
岩田敬次 ;
松永恭幸 ;
高桥朋宏 .
日本专利 :CN114068358B ,2025-09-26
[45]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
佐佐木悠太 ;
塙洋祐 ;
滩原壮一 ;
上田大 ;
北川广明 ;
奥村勝弥 .
中国专利 :CN107481954A ,2017-12-15
[46]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
宫川纱希 ;
佐藤雅伸 ;
堀口博司 .
日本专利 :CN117941035A ,2024-04-26
[47]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
泉昭 ;
佐野谦一 .
中国专利 :CN1794430A ,2006-06-28
[48]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
合田和树 ;
岩田敬次 ;
松永恭幸 ;
高桥朋宏 .
中国专利 :CN114068358A ,2022-02-18
[49]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
藤原友则 ;
柴山宣之 ;
吉田幸史 ;
柴田哲弥 ;
仲野彰义 .
中国专利 :CN104992912A ,2015-10-21
[50]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
小林信雄 ;
古川长树 ;
山崎克弘 ;
齐藤裕树 .
中国专利 :CN107275257A ,2017-10-20