套刻对准方法及套刻模板组件

被引:0
申请号
CN202211002657.2
申请日
2022-08-22
公开(公告)号
CN115083982B
公开(公告)日
2022-09-20
发明(设计)人
惠利省 杨国文 白龙刚
申请人
申请人地址
215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号西北区20幢215、217室
IPC主分类号
H01L2168
IPC分类号
H01L21308 H01S500
代理机构
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463
代理人
杨萌
法律状态
授权
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
套刻对准标记及掩模板组件 [P]. 
沈俊明 ;
吴建宏 ;
林士程 .
中国专利 :CN214623293U ,2021-11-05
[2]
一种套刻对准标记及套刻偏移的测量方法 [P]. 
高钊 ;
林定群 ;
方震宇 .
中国专利 :CN119805874A ,2025-04-11
[3]
一种套刻对准光学量测系统和套刻对准检测设备 [P]. 
谷孝东 ;
曹葵康 ;
蔡亚楠 .
中国专利 :CN120848122A ,2025-10-28
[4]
套刻对准标记的形成方法 [P]. 
刘玄 ;
余啸 .
中国专利 :CN115206859B ,2025-09-16
[5]
套刻对准标记及其制作方法 [P]. 
张峻豪 .
中国专利 :CN101593744B ,2009-12-02
[6]
掩模板、套刻对准方法及制备脊形波导激光器的方法 [P]. 
吴艳华 ;
王飞飞 ;
胡发杰 ;
金鹏 ;
王占国 .
中国专利 :CN104460223A ,2015-03-25
[7]
一种套刻标记结构及套刻补偿方法 [P]. 
陈会敏 ;
陈呈 .
中国专利 :CN118330984A ,2024-07-12
[8]
半导体套刻图形及套刻精度测量方法 [P]. 
许俊益 ;
王珊珊 ;
仇峰 .
中国专利 :CN120178610A ,2025-06-20
[9]
套刻标记和套刻误差的测量方法 [P]. 
盛薄辉 .
中国专利 :CN114864549A ,2022-08-05
[10]
套刻误差量测装置及套刻误差量测方法 [P]. 
谷孝东 ;
曹葵康 .
中国专利 :CN118824880B ,2025-02-25