一种增强AlN薄膜择优取向生长的沉积方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010183319.4
申请日
2010-05-26
公开(公告)号
CN101824592A
公开(公告)日
2010-09-08
发明(设计)人
周灵平 李智 朱家俊 彭坤
申请人
申请人地址
410082 湖南省长沙市麓山南路2号
IPC主分类号
C23C1406
IPC分类号
C23C1446 C23C1435
代理机构
长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113
代理人
马强
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种择优取向的AlN压电薄膜及其制备方法 [P]. 
陈希明 ;
李福龙 ;
薛玉明 ;
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[2]
一种AlN薄膜的制备方法 [P]. 
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[3]
BNdT铁电薄膜择优取向生长的制备方法 [P]. 
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[4]
一种择优取向生长的硫化二铜薄膜 [P]. 
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孙昌 ;
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[5]
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[6]
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[7]
BaTi2O5薄膜择优取向生长的制备方法 [P]. 
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[8]
择优取向的氮化铝薄膜的制备方法 [P]. 
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[9]
一种(211)择优取向Mo薄膜的制备方法 [P]. 
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[10]
一种具有高度(110)择优取向的钌酸锶薄膜的制备方法 [P]. 
王根水 ;
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