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切割片、切割·芯片接合薄膜以及半导体装置的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201580067732.5
申请日
:
2015-12-10
公开(公告)号
:
CN107004589A
公开(公告)日
:
2017-08-01
发明(设计)人
:
宍户雄一郎
三隅贞仁
大西谦司
柳雄一朗
申请人
:
申请人地址
:
日本大阪府
IPC主分类号
:
H01L21301
IPC分类号
:
C09J702
H01L2152
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇;李茂家
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-08-01
公开
公开
2017-12-22
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/301 申请日:20151210
2021-07-16
授权
授权
共 50 条
[1]
芯片接合薄膜、带切割片的芯片接合薄膜、半导体装置、以及半导体装置的制造方法
[P].
大西谦司
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大西谦司
;
三隅贞仁
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三隅贞仁
;
村田修平
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村田修平
;
宍户雄一郎
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宍户雄一郎
;
木村雄大
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木村雄大
.
中国专利
:CN104946151B
,2015-09-30
[2]
切割芯片接合薄膜以及半导体装置制造方法
[P].
大西谦司
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大西谦司
;
宍户雄一郎
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宍户雄一郎
;
木村雄大
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木村雄大
;
杉村敏正
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杉村敏正
;
福井章洋
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福井章洋
.
中国专利
:CN110527444A
,2019-12-03
[3]
切割/芯片接合薄膜、切割/芯片接合薄膜的制造方法以及半导体装置的制造方法
[P].
村田修平
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村田修平
;
松村健
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松村健
;
柳雄一朗
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柳雄一朗
.
中国专利
:CN102408845A
,2012-04-11
[4]
切割/芯片接合薄膜、半导体装置的制造方法以及半导体装置
[P].
宍户雄一郎
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宍户雄一郎
;
三隅贞仁
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三隅贞仁
;
大西谦司
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大西谦司
.
中国专利
:CN104733400A
,2015-06-24
[5]
芯片接合切割片材
[P].
古谷涼士
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古谷涼士
;
铃村浩二
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铃村浩二
;
岩永有辉启
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岩永有辉启
;
中村祐树
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中村祐树
.
中国专利
:CN110767595A
,2020-02-07
[6]
芯片接合切割片材
[P].
古谷涼士
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古谷涼士
;
铃村浩二
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铃村浩二
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岩永有辉启
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岩永有辉启
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中村祐树
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中村祐树
.
中国专利
:CN205004316U
,2016-01-27
[7]
芯片接合切割片材
[P].
古谷涼士
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古谷涼士
;
铃村浩二
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铃村浩二
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岩永有辉启
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岩永有辉启
;
中村祐树
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中村祐树
.
中国专利
:CN112289733A
,2021-01-29
[8]
芯片接合切割片材
[P].
古谷涼士
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古谷涼士
;
铃村浩二
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铃村浩二
;
岩永有辉启
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岩永有辉启
;
中村祐树
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中村祐树
.
中国专利
:CN105140165A
,2015-12-09
[9]
芯片接合切割片材
[P].
古谷涼士
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
古谷涼士
;
铃村浩二
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
铃村浩二
;
岩永有辉启
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
岩永有辉启
;
中村祐树
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
中村祐树
.
日本专利
:CN110767595B
,2024-05-24
[10]
切割薄膜、切割/芯片接合薄膜及半导体装置的制造方法
[P].
木村雄大
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木村雄大
;
三隅贞仁
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三隅贞仁
;
村田修平
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村田修平
;
大西谦司
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大西谦司
;
宍户雄一郎
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宍户雄一郎
.
中国专利
:CN104946152A
,2015-09-30
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