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顶栅场效应晶体管及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202210742669.2
申请日
:
2022-06-28
公开(公告)号
:
CN117377328A
公开(公告)日
:
2024-01-09
发明(设计)人
:
肖洪山
刘洪刚
张志勇
彭练矛
申请人
:
北京大学
北京元芯碳基集成电路研究院
北京华碳元芯电子科技有限责任公司
申请人地址
:
100871 北京市海淀区颐和园路5号
IPC主分类号
:
H10K10/88
IPC分类号
:
H10K10/46
H10K85/20
代理机构
:
北京庚致知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11807
代理人
:
孙敬霞;韩德凯
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
北京市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-01-26
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H10K 10/88申请日:20220628
2024-01-09
公开
公开
共 50 条
[1]
场效应晶体管及其制备方法
[P].
肖德元
论文数:
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肖德元
;
张汝京
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张汝京
.
中国专利
:CN106601804A
,2017-04-26
[2]
场效应晶体管及其制备方法
[P].
卢年端
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卢年端
;
李泠
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李泠
;
揣喜臣
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揣喜臣
;
杨冠华
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杨冠华
;
耿玓
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耿玓
;
刘明
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刘明
.
中国专利
:CN110098256A
,2019-08-06
[3]
场效应晶体管及其制备方法
[P].
徐慧龙
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徐慧龙
;
肖祥
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肖祥
;
李伟
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李伟
.
中国专利
:CN110323277B
,2021-01-29
[4]
场效应晶体管及其栅结构
[P].
林毓超
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林毓超
;
林志忠
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林志忠
;
林益安
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林益安
;
林日泽
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林日泽
;
陈昭成
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陈昭成
;
陈嘉仁
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陈嘉仁
;
张文
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张文
.
中国专利
:CN101997027A
,2011-03-30
[5]
沟槽栅场效应晶体管及其制备方法
[P].
许耀光
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许耀光
;
刘安淇
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刘安淇
;
蔡建成
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蔡建成
;
郑俊义
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郑俊义
.
中国专利
:CN114927567A
,2022-08-19
[6]
屏蔽栅场效应晶体管及其制备方法
[P].
安秋爽
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机构:
芯联集成电路制造股份有限公司
芯联集成电路制造股份有限公司
安秋爽
;
徐承福
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机构:
芯联集成电路制造股份有限公司
芯联集成电路制造股份有限公司
徐承福
;
徐旭东
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机构:
芯联集成电路制造股份有限公司
芯联集成电路制造股份有限公司
徐旭东
;
丛茂杰
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机构:
芯联集成电路制造股份有限公司
芯联集成电路制造股份有限公司
丛茂杰
;
陆珏
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机构:
芯联集成电路制造股份有限公司
芯联集成电路制造股份有限公司
陆珏
.
中国专利
:CN117976720A
,2024-05-03
[7]
场效应晶体管及场效应晶体管的制备方法
[P].
徐慧龙
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徐慧龙
;
秦旭东
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秦旭东
;
张臣雄
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张臣雄
.
中国专利
:CN108475680A
,2018-08-31
[8]
场效应晶体管及其制备方法
[P].
毕津顺
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毕津顺
;
海潮和
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海潮和
;
韩郑生
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韩郑生
;
罗家俊
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罗家俊
.
中国专利
:CN103022084A
,2013-04-03
[9]
场效应晶体管及其制备方法
[P].
赵龙杰
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机构:
无锡华润华晶微电子有限公司
无锡华润华晶微电子有限公司
赵龙杰
;
张新
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机构:
无锡华润华晶微电子有限公司
无锡华润华晶微电子有限公司
张新
;
郑芳
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机构:
无锡华润华晶微电子有限公司
无锡华润华晶微电子有限公司
郑芳
.
中国专利
:CN120282508A
,2025-07-08
[10]
互补场效应晶体管及其制备方法
[P].
肖德元
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肖德元
.
中国专利
:CN106601738A
,2017-04-26
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