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スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20050517892
申请日
:
2004-07-29
公开(公告)号
:
JPWO2005078152A1
公开(公告)日
:
2007-11-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
C04B35/457
C04B35/547
C23C14/08
G11B7/24
G11B7/254
G11B7/257
G11B7/26
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[21]
磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013125469A1
,2015-07-30
[22]
磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018123500A1
,2019-03-28
[23]
酸化物スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6390142B2
,2018-09-19
[24]
磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016140113A1
,2017-06-29
[25]
酸化物スパッタリングターゲット、及び酸化物スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6414165B2
,2018-10-31
[26]
磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013136962A1
,2015-08-03
[27]
FePt系スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013105648A1
,2015-05-11
[28]
酸化物スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに酸化物薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JP7436409B2
,2024-02-21
[29]
スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017115648A1
,2017-12-28
[30]
酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7359836B2
,2023-10-11
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