金属窒化物薄膜の形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20220514271

申请日：

2020-07-24

公开(公告)号：

JP2022546822A

公开(公告)日：

2022-11-09

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C16/34

IPC分类号：

H01L21/285 H01L21/318

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共 50 条

[1]

薄膜の平坦化方法、平坦化薄膜の形成方法及び薄膜形成用ワニス[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015182667A1 ,2017-04-20

[2]

金属氮化物薄膜的形成方法 [P].

李根守 ;

朴吉在 ;

洪钟台 ;

辛喆熙 .

中国专利 :CN114341396A ,2022-04-12

[3]

多孔質薄膜の形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004092440A1 ,2006-07-06

[4]

薄膜形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014196352A1 ,2017-02-23

[5]

薄膜形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP7776911B1 ,2025-11-27

[6]

窒化物ナノ結晶の合成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015532912A ,2015-11-16

[7]

２次元材料薄膜の形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025158838A ,2025-10-17

[8]

薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja] [P].

FUJII SATOSHI ;

FUKUSHIMA JUN ;

TAKIZAWA HIROTANE ;

ISHII TOMONORI .

日本专利 :JP2024142274A ,2024-10-10

[9]

窒化物結晶の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015137266A1 ,2017-04-06

[10]

有機薄膜形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008059840A1 ,2010-03-04

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