回路基板の電磁界解析方法および装置ならびに回路基板およびその設計方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20050512951

申请日：

2004-08-05

公开(公告)号：

JPWO2005015449A1

公开(公告)日：

2006-10-05

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G06F17/50

IPC分类号：

H01F17/00 H05K3/00 H05K3/46

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

回路基板および表示装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011125353A1 ,2013-07-08

[2]

配線回路基板、電気的要素実装基板、電子部品および配線回路基板の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025129029A ,2025-09-03

[3]

配線回路基板および配線回路基板集合体シート[ja] [P].

日本专利 :JP7154344B1 ,2022-10-17

[4]

基板処理装置およびその表示方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018179353A1 ,2019-11-07

[5]

基板洗浄装置および基板洗浄方法[ja] [P].

OKITA NOBUAKI ;

NAKAMURA KAZUKI ;

OKADA YOSHIFUMI .

日本专利 :JP2024091091A ,2024-07-04

[6]

基板の静電荷を測定する方法および装置[ja] [P].

日本专利 :JP2019500748A ,2019-01-10

[7]

表示装置およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014141842A1 ,2017-02-16

[8]

トランジスタおよびその製造方法、並びに集積回路[ja] [P].

FUKITOME HIROKAZU ;

WATANABE KAZUYO ;

KAWAHARA MINORU ;

AKIYAMA SHOJI ;

TOBISAKA YUUJI ;

KAWAI MAKOTO .

日本专利 :JP2024176868A ,2024-12-19

[9]

基板および液晶表示装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012073773A1 ,2014-05-19

[10]

流体計測装置、流体計測方法および基板処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025183037A ,2025-12-16

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