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一种研磨终点检测系统和检测方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410592399.0
申请日
:
2024-05-13
公开(公告)号
:
CN118362509A
公开(公告)日
:
2024-07-19
发明(设计)人
:
周庆亚
张为强
李嘉浪
白琨
李坤
申请人
:
北京晶亦精微科技股份有限公司
申请人地址
:
100176 北京市大兴区经济技术开发区泰河三街1号2幢2层101
IPC主分类号
:
G01N21/17
IPC分类号
:
G01N21/01
代理机构
:
北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250
代理人
:
刘贺秋
法律状态
:
公开
国省代码
:
安徽省 宣城市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-07-19
公开
公开
2024-08-06
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G01N 21/17申请日:20240513
共 50 条
[1]
终点检测装置和终点检测系统
[P].
刘昕
论文数:
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刘昕
;
董伯辉
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董伯辉
;
孙启磊
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孙启磊
;
王玉
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王玉
;
王立
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0
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王立
.
中国专利
:CN211238175U
,2020-08-11
[2]
化学机械研磨及其终点检测方法
[P].
李健
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0
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李健
.
中国专利
:CN101456151A
,2009-06-17
[3]
光学终点检测系统
[P].
巴拉苏布拉马尼恩·拉马钱德雷
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巴拉苏布拉马尼恩·拉马钱德雷
;
石井雅人
论文数:
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石井雅人
;
阿伦·缪尔·亨特
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阿伦·缪尔·亨特
.
中国专利
:CN103493192A
,2014-01-01
[4]
刻蚀终点检测方法
[P].
罗永坚
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罗永坚
;
张颂周
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张颂周
;
任昱
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任昱
;
朱骏
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朱骏
;
吕煜坤
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吕煜坤
;
张旭升
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张旭升
.
中国专利
:CN104392946A
,2015-03-04
[5]
一种光谱检测设备、终点检测系统和方法
[P].
伊凡·比久科夫
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
伊凡·比久科夫
.
中国专利
:CN112213272B
,2024-01-12
[6]
一种光谱检测设备、终点检测系统和方法
[P].
伊凡·比久科夫
论文数:
0
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伊凡·比久科夫
.
中国专利
:CN112213272A
,2021-01-12
[7]
语音终点检测装置、系统和方法
[P].
李京澈
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李京澈
;
赵在珉
论文数:
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赵在珉
.
中国专利
:CN109003626A
,2018-12-14
[8]
一种等离子体刻蚀终点检测系统及刻蚀终点检测方法
[P].
方铭国
论文数:
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机构:
深圳泰研半导体装备有限公司
深圳泰研半导体装备有限公司
方铭国
.
中国专利
:CN121215542A
,2025-12-26
[9]
一种等离子体刻蚀终点检测系统及刻蚀终点检测方法
[P].
论文数:
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机构:
牛夷
;
论文数:
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机构:
姜晶
;
陈浩林
论文数:
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机构:
电子科技大学
电子科技大学
陈浩林
;
论文数:
引用数:
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机构:
李璇
;
论文数:
引用数:
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机构:
李志强
;
论文数:
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机构:
王超
.
中国专利
:CN117451636A
,2024-01-26
[10]
研磨装置和研磨装置的研磨终点检测方法
[P].
中村裕贵
论文数:
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引用数:
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
中村裕贵
;
铃木佑多
论文数:
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
铃木佑多
;
渡边裕辅
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
渡边裕辅
;
松田道昭
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
松田道昭
;
山本弘贵
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
山本弘贵
;
高桥太郎
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
高桥太郎
.
日本专利
:CN117836091A
,2024-04-05
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