一种双栅极VDMOS器件

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410933931.0
申请日
2024-07-12
公开(公告)号
CN118841446A
公开(公告)日
2024-10-25
发明(设计)人
许一力
申请人
杭州谱析光晶半导体科技有限公司
申请人地址
310000 浙江省杭州市萧山区永晖路548号钱江电气大厦18层
IPC主分类号
H01L29/78
IPC分类号
H01L29/06 H01L29/423 H01L27/088
代理机构
广州粤弘专利代理事务所(普通合伙) 44492
代理人
任远飞
法律状态
公开
国省代码
浙江省 杭州市
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共 50 条
[1]
双栅极VDMOS器件 [P]. 
H·索布提 ;
T·K·麦圭尔 ;
D·L·斯奈德 ;
S·J·阿尔贝哈斯基 .
中国专利 :CN103035726A ,2013-04-10
[2]
双栅极捆扎的VDMOS器件 [P]. 
S·J·阿尔贝哈斯基 ;
D·E·哈特 ;
S·乌普力 .
中国专利 :CN103035725B ,2013-04-10
[3]
一种降低栅极电场的VDMOS器件 [P]. 
许一力 .
中国专利 :CN118866970A ,2024-10-29
[4]
双栅极器件以及双栅极器件的制造方法 [P]. 
徐洪远 .
中国专利 :CN104795496A ,2015-07-22
[5]
一种平面型VDMOS器件双栅极结构的制作方法 [P]. 
顾昀浦 ;
黄健 ;
孙闫涛 ;
张楠 ;
宋跃桦 ;
刘静 ;
吴平丽 .
中国专利 :CN114373676A ,2022-04-19
[6]
一种降低电磁干扰及其噪声的VDMOS器件 [P]. 
许一力 .
中国专利 :CN223007814U ,2025-06-20
[7]
一种槽栅超结VDMOS器件 [P]. 
许一力 .
中国专利 :CN223007812U ,2025-06-20
[8]
一种自对准双栅极MOSFET及其制造工艺 [P]. 
许一力 ;
李鑫 ;
杨琦 .
中国专利 :CN120640744A ,2025-09-12
[9]
一种自对准双栅极MOSFET及其制造工艺 [P]. 
许一力 ;
李鑫 ;
杨琦 .
中国专利 :CN120640744B ,2025-11-18
[10]
一种P沟道VDMOS器件及其制备方法 [P]. 
牛玉玮 ;
吴海舟 ;
张彦飞 ;
刘梦新 ;
温霄霞 .
中国专利 :CN119300389A ,2025-01-10