一种全磁控溅射制备晶圆级Bi<sub>2</sub>O<sub>2</sub>Se/HfO<sub>2</sub>薄膜晶体管的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411066367.3
申请日
2024-08-05
公开(公告)号
CN119008410A
公开(公告)日
2024-11-22
发明(设计)人
陈喜 殷鑫涛 吕朋浩
申请人
南京理工大学
申请人地址
210094 江苏省南京市孝陵卫200号
IPC主分类号
H01L21/336
IPC分类号
C23C14/06 C23C14/08 C23C14/18 C23C14/35 C23C14/58 H01L29/786 H01L21/02 H01L21/443
代理机构
南京理工大学专利中心 32203
代理人
邹伟红
法律状态
公开
国省代码
江苏省 南京市
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共 50 条
[1]
一种通过磁控溅射在Si/SiO<sub>2</sub>衬底上制备HfO<sub>2</sub>薄膜优化Bi<sub>2</sub>O<sub>2</sub>Se薄膜生长的方法及Bi<sub>2</sub>O<sub>2</sub>Se薄膜 [P]. 
唐家轩 ;
徐锋 ;
徐桂舟 ;
陈喜 ;
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[2]
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陈喜 ;
唐佳轩 ;
徐桂舟 ;
徐锋 .
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[3]
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[4]
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[5]
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赵美金 ;
肖丽丽 ;
孙苏阳 ;
冯世壕 ;
顾凯杰 ;
荆海林 ;
李莹 ;
张峰浩 ;
张雪凤 ;
朱治愿 ;
岳鹏飞 ;
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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乌兰 ;
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