钝化膜的选择性沉积

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202180003885.9

申请日：

2021-10-26

公开(公告)号：

CN114761613B

公开(公告)日：

2024-11-29

发明(设计)人：

安德里亚·列奥尼王勇多琳·卫英·勇

申请人：

应用材料公司新加坡国立大学

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

C23C16/04

IPC分类号：

C23C16/455 H01L21/285 H01L21/02 B05D1/00

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;赵静

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-29	授权	授权

共 50 条

[1]

钝化膜的选择性沉积 [P].

安德里亚·列奥尼 ;

王勇 ;

多琳·卫英·勇 .

中国专利 :CN114761613A ,2022-07-15

[2]

选择性钝化和选择性沉积 [P].

J·W·梅斯 ;

M·吉文斯 ;

S·豪卡 ;

V·帕鲁丘里 ;

I·拉伊梅克斯 ;

S·邓 ;

A·伊利贝里 ;

E·托伊斯 ;

D·朗格里 .

中国专利 :CN110993482A ,2020-04-10

[3]

选择性钝化和选择性沉积 [P].

J.W.梅斯 ;

M.E.吉文斯 ;

S.P.霍卡 ;

V.帕鲁丘里 ;

I.J.拉伊杰马克斯 ;

邓少任 ;

A.伊利贝里 ;

E.E.托伊斯 ;

D.朗格里 ;

C.德泽拉 ;

M.图米恩 .

中国专利 :CN115679286A ,2023-02-03

[4]

金属膜的高选择性沉积方法 [P].

R·坎乔利亚 ;

M·蒙普尔 ;

J·伍德拉夫 ;

S·沃尔夫 ;

M·布里登 ;

S·T·乌达 ;

A·库梅尔 ;

A·阿努拉格 .

中国专利 :CN113166930A ,2021-07-23

[5]

金属膜的高选择性沉积方法 [P].

R·坎乔利亚 ;

M·蒙普尔 ;

J·伍德拉夫 ;

S·沃尔夫 ;

M·布里登 ;

S·T·乌达 ;

A·库梅尔 ;

A·阿努拉格 .

德国专利 :CN113166930B ,2024-07-12

[6]

在金属表面上选择性沉积杂环钝化膜 [P].

王勇 ;

多琳·卫英·勇 ;

巴斯卡尔·乔蒂·布雅 ;

约翰·苏迪约诺 .

美国专利 :CN114698381B ,2024-05-24

[7]

在金属表面上选择性沉积杂环钝化膜 [P].

王勇 ;

多琳·卫英·勇 ;

巴斯卡尔·乔蒂·布雅 ;

约翰·苏迪约诺 .

中国专利 :CN114698381A ,2022-07-01

[8]

在金属表面上选择性沉积杂环钝化膜 [P].

王勇 ;

多琳·卫英·勇 ;

巴斯卡尔·乔蒂·布雅 ;

约翰·苏迪约诺 .

美国专利 :CN118497700A ,2024-08-16

[9]

用于选择性膜生长的原子层沉积方法 [P].

让-塞巴斯蒂安·莱恩 ;

查尔斯·德泽拉 ;

雅各布·伍德拉夫 .

德国专利 :CN111032908B ,2024-01-30

[10]

用于选择性膜生长的原子层沉积方法 [P].

让-塞巴斯蒂安·莱恩 ;

查尔斯·德泽拉 ;

雅各布·伍德拉夫 .

中国专利 :CN111032908A ,2020-04-17

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