一种原子层沉积装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202420331407.1

申请日：

2024-02-22

公开(公告)号：

CN222455208U

公开(公告)日：

2025-02-11

发明(设计)人：

请求不公布姓名请求不公布姓名易海芒请求不公布姓名

申请人：

深圳黑晶光电技术有限公司

申请人地址：

518000 广东省深圳市龙华区大浪街道陶元社区鹊山光浩工业园E栋201

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/24

代理机构：

深圳立羽知识产权代理事务所(普通合伙) 441028

代理人：

贺鹏

法律状态：

授权

国省代码：

广东省深圳市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-11	授权	授权

共 50 条

[1]

一种原子层沉积装置 [P].

应世强 ;

应佳根 .

中国专利 :CN216274363U ,2022-04-12

[2]

原子层沉积设备 [P].

屈芙蓉 ;

刘传钦 ;

夏洋 ;

李超波 .

中国专利 :CN302072349S ,2012-09-12

[3]

一种原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P].

徐志斌 ;

马骏 ;

祝晓钊 ;

冯敏强 ;

廖良生 .

中国专利 :CN112176321A ,2021-01-05

[4]

一种原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P].

徐志斌 ;

马骏 ;

祝晓钊 ;

冯敏强 ;

廖良生 .

中国专利 :CN112176321B ,2025-01-14

[5]

一种原子层沉积装置及原子层沉积设备 [P].

李哲峰 ;

乌磊 .

中国专利 :CN212335291U ,2021-01-12

[6]

原子层沉积系统（1） [P].

吕树玲 ;

万军 ;

夏洋 ;

李超波 ;

陈波 .

中国专利 :CN301959904S ,2012-06-20

[7]

原子层沉积机（PEALD） [P].

祁文杰 ;

卢秋霞 ;

刘群 .

中国专利 :CN308823371S ,2024-09-06

[8]

原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P].

刘良文 ;

闫晓晖 ;

拉海忠 .

中国专利 :CN119800330A ,2025-04-11

[9]

原子层沉积方法及原子层沉积装置 [P].

叶长福 ;

魏鼎 ;

吕佐文 .

中国专利 :CN117265508B ,2025-09-26

[10]

原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P].

李名言 ;

吴孝哲 ;

蔡文立 .

中国专利 :CN101333648A ,2008-12-31

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