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化学气相沉积方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410117657.X
申请日
:
2024-01-26
公开(公告)号
:
CN119372622A
公开(公告)日
:
2025-01-28
发明(设计)人
:
张盈盈
申请人
:
深圳市昇维旭技术有限公司
申请人地址
:
518000 广东省深圳市龙岗区平湖街道辅城坳社区新源三巷1号B栋104
IPC主分类号
:
C23C16/44
IPC分类号
:
C23C16/52
C23C16/34
代理机构
:
深圳市联鼎知识产权代理有限公司 44232
代理人
:
刘抗美
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-02-21
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/44申请日:20240126
2025-01-28
公开
公开
共 50 条
[1]
化学气相沉积装置、化学气相沉积方法
[P].
周鸣
论文数:
0
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0
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0
周鸣
.
中国专利
:CN103060772B
,2013-04-24
[2]
化学气相沉积装置和化学气相沉积方法
[P].
酒井士郎
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酒井士郎
;
高松勇吉
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高松勇吉
;
森勇次
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森勇次
;
直井弘之
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直井弘之
;
H·X·王
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H·X·王
;
石滨义康
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石滨义康
;
纲岛丰
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纲岛丰
.
中国专利
:CN1259450C
,2002-04-17
[3]
化学气相沉积装置及化学气相沉积方法
[P].
刘忠范
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机构:
北京石墨烯研究院
北京石墨烯研究院
刘忠范
;
亓月
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机构:
北京石墨烯研究院
北京石墨烯研究院
亓月
;
杨钰垚
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机构:
北京石墨烯研究院
北京石墨烯研究院
杨钰垚
;
袁昊
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机构:
北京石墨烯研究院
北京石墨烯研究院
袁昊
.
中国专利
:CN118814133A
,2024-10-22
[4]
化学气相沉积装置及化学气相沉积方法
[P].
刘恒
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刘恒
.
中国专利
:CN102851651A
,2013-01-02
[5]
化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法
[P].
N·P·德斯科维奇
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N·P·德斯科维奇
;
W·D·格罗夫
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0
W·D·格罗夫
.
中国专利
:CN105369211A
,2016-03-02
[6]
化学气相沉积方法
[P].
孙旭海
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
孙旭海
;
刘满成
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
刘满成
.
中国专利
:CN121204634A
,2025-12-26
[7]
化学气相沉积方法
[P].
刘忠范
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机构:
北京石墨烯研究院
北京石墨烯研究院
刘忠范
;
亓月
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机构:
北京石墨烯研究院
北京石墨烯研究院
亓月
;
杨钰垚
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机构:
北京石墨烯研究院
北京石墨烯研究院
杨钰垚
;
袁昊
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机构:
北京石墨烯研究院
北京石墨烯研究院
袁昊
.
中国专利
:CN119082695A
,2024-12-06
[8]
化学气相沉积方法
[P].
G·本韦努蒂
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G·本韦努蒂
;
E·瓦格纳
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E·瓦格纳
;
C·桑杜
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C·桑杜
.
中国专利
:CN106460167B
,2017-02-22
[9]
化学气相沉积方法
[P].
徐兴国
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徐兴国
;
张凌越
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张凌越
;
姜波
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姜波
.
中国专利
:CN113046731A
,2021-06-29
[10]
化学气相沉积方法
[P].
周云
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周云
;
宋维聪
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0
宋维聪
.
中国专利
:CN111235547B
,2020-06-05
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