化学气相沉积方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411216737.7

申请日：

2024-08-30

公开(公告)号：

CN119082695A

公开(公告)日：

2024-12-06

发明(设计)人：

刘忠范亓月杨钰垚袁昊

申请人：

北京石墨烯研究院北京大学

申请人地址：

100095 北京市海淀区苏家坨镇翠湖南路13号院中关村翠湖科技园2号楼

IPC主分类号：

C23C16/02

IPC分类号：

C23C16/26 C23C16/46

代理机构：

北京律智知识产权代理有限公司 11438

代理人：

李华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

北京市市辖区

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-24	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/02申请日:20240830
2024-12-06	公开	公开

共 50 条

[1]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘忠范 ;

亓月 ;

杨钰垚 ;

袁昊 .

中国专利 :CN118814133A ,2024-10-22

[2]

化学气相沉积装置、化学气相沉积方法 [P].

周鸣 .

中国专利 :CN103060772B ,2013-04-24

[3]

化学气相沉积装置和化学气相沉积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

直井弘之 ;

H·X·王 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1259450C ,2002-04-17

[4]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN102851651A ,2013-01-02

[5]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[6]

化学气相沉积设备、方法及用途 [P].

郭国平 ;

杨晖 ;

李海欧 ;

曹刚 ;

肖明 ;

郭光灿 .

中国专利 :CN107815664A ,2018-03-20

[7]

化学气相沉积装置 [P].

刘忠范 ;

亓月 ;

杨钰垚 ;

袁昊 .

中国专利 :CN222948468U ,2025-06-06

[8]

化学气相沉积方法 [P].

孙旭海 ;

刘满成 .

中国专利 :CN121204634A ,2025-12-26

[9]

化学气相沉积方法 [P].

张盈盈 .

中国专利 :CN119372622A ,2025-01-28

[10]

化学气相沉积方法 [P].

G·本韦努蒂 ;

E·瓦格纳 ;

C·桑杜 .

中国专利 :CN106460167B ,2017-02-22

← 1 2 3 4 5 →