环形喷头及基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411499947.1

申请日：

2024-10-24

公开(公告)号：

CN119411221A

公开(公告)日：

2025-02-11

发明(设计)人：

深泽孝之

申请人：

深圳市昇维旭技术有限公司

申请人地址：

518000 广东省深圳市龙岗区平湖街道辅城坳社区新源三巷1号B栋104

IPC主分类号：

C30B25/14

IPC分类号：

C30B25/16 C30B25/10 C23C16/455 C23C16/46 C23C16/52 H01L21/67

代理机构：

深圳市联鼎知识产权代理有限公司 44232

代理人：

刘抗美

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-28	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C30B 25/14申请日:20241024
2025-02-11	公开	公开

共 50 条

[1]

喷头组件以及基板处理装置 [P].

金宰焕 ;

朴玩哉 ;

李城吉 ;

丘峻宅 .

韩国专利 :CN120236970A ,2025-07-01

[2]

喷头组件以及基板处理装置 [P].

张琼镐 ;

尹炳浩 ;

姜民旭 .

韩国专利 :CN117497449A ,2024-02-02

[3]

喷头组件以及基板处理装置 [P].

张琼镐 ;

尹炳浩 ;

姜民旭 .

韩国专利 :CN117497450A ,2024-02-02

[4]

喷头及包括该喷头的基板处理装置 [P].

禹览 ;

金起范 ;

金在虹 ;

李佶帝 ;

李柱荣 ;

河闰圭 .

韩国专利 :CN113302729B ,2024-07-09

[5]

喷头及包括该喷头的基板处理装置 [P].

徐东源 ;

金相烨 ;

柳熙城 ;

李白朱 ;

赵铉喆 ;

千珉镐 ;

韩必熙 .

韩国专利 :CN118318065A ,2024-07-09

[6]

喷头及包括该喷头的基板处理装置 [P].

禹览 ;

金起范 ;

金在虹 ;

李佶帝 ;

李柱荣 ;

河闰圭 .

中国专利 :CN113302729A ,2021-08-24

[7]

基板处理装置及包括基板处理装置的半导体制造设备 [P].

徐锺锡 ;

林宣燮 .

韩国专利 :CN118263152A ,2024-06-28

[8]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

朴祥铉 ;

李弘周 .

中国专利 :CN111293056A ,2020-06-16

[9]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

小林信雄 ;

樋口晃一 ;

黑川祯明 ;

荒井隆史 .

中国专利 :CN101009206B ,2007-08-01

[10]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

权永秀 ;

罗敬弼 ;

朴钟吾 ;

崔浈烈 .

中国专利 :CN106480412A ,2017-03-08

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