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等离子体处理装置和终点检测方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380053362.4
申请日
:
2023-07-14
公开(公告)号
:
CN119547188A
公开(公告)日
:
2025-02-28
发明(设计)人
:
林雅一
申请人
:
东京毅力科创株式会社
申请人地址
:
日本
IPC主分类号
:
H01L21/3065
IPC分类号
:
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;何中文
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-02-28
公开
公开
2025-03-18
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/3065申请日:20230714
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和终点检测方法
[P].
舆水地盐
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
舆水地盐
;
永井龙
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永井龙
.
日本专利
:CN120981896A
,2025-11-18
[2]
等离子体处理装置、等离子体处理方法以及终点检测方法
[P].
壁义郎
论文数:
0
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0
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壁义郎
;
太田欣也
论文数:
0
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太田欣也
;
北川淳一
论文数:
0
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0
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0
北川淳一
.
中国专利
:CN101681832A
,2010-03-24
[3]
等离子体灰化装置和终点检测方法
[P].
A·史瑞伐斯塔伐
论文数:
0
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A·史瑞伐斯塔伐
;
P·沙克希威尔
论文数:
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P·沙克希威尔
;
T·巴克利
论文数:
0
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0
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0
T·巴克利
.
中国专利
:CN1802722A
,2006-07-12
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
金子和史
论文数:
0
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0
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0
金子和史
.
中国专利
:CN114302547A
,2022-04-08
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
舆水地盐
.
日本专利
:CN117480870B
,2024-06-28
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
塚原利也
论文数:
0
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
塚原利也
;
山边周平
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山边周平
;
谷地晃汰
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
谷地晃汰
;
佐藤徹治
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤徹治
;
内田阳平
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
内田阳平
;
铃木步太
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
铃木步太
;
田村洋典
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
田村洋典
;
花冈秀敏
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
花冈秀敏
;
佐佐木淳一
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐佐木淳一
.
日本专利
:CN111261511B
,2024-06-18
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
田井将纪
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
田井将纪
.
日本专利
:CN120036053A
,2025-05-23
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
竹内贵广
论文数:
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0
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0
竹内贵广
;
小林宪
论文数:
0
引用数:
0
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0
小林宪
.
中国专利
:CN114188208A
,2022-03-15
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
西野雅
论文数:
0
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0
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0
西野雅
;
真壁正嗣
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0
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0
真壁正嗣
;
长山将之
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0
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0
长山将之
;
半田达也
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0
半田达也
;
绿川良太郎
论文数:
0
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0
绿川良太郎
;
小林启悟
论文数:
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小林启悟
;
仁矢铁也
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0
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0
仁矢铁也
.
中国专利
:CN103959447A
,2014-07-30
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
塚原利也
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0
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0
塚原利也
;
山边周平
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山边周平
;
谷地晃汰
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谷地晃汰
;
佐藤徹治
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佐藤徹治
;
内田阳平
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内田阳平
;
铃木步太
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铃木步太
;
田村洋典
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田村洋典
;
花冈秀敏
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花冈秀敏
;
佐佐木淳一
论文数:
0
引用数:
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佐佐木淳一
.
中国专利
:CN111261511A
,2020-06-09
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