一种离子束镀膜与刻蚀设备中的双模耦合中和器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311302595.1

申请日：

2023-10-09

公开(公告)号：

CN119811966A

公开(公告)日：

2025-04-11

发明(设计)人：

陈特超刘东明黄群龚俊袁祖浩李勇

申请人：

中国电子科技集团公司第四十八研究所

申请人地址：

410111 湖南省长沙市天心区新开铺路1025号

IPC主分类号：

H01J37/02

IPC分类号：

代理机构：

湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008

代理人：

廖元宝

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-29	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01J 37/02申请日:20231009
2025-04-11	公开	公开

共 50 条

[1]

一种离子束镀膜设备 [P].

陈卫军 ;

欧阳增图 ;

刘凌海 .

中国专利 :CN221971656U ,2024-11-08

[2]

一种离子束镀膜装置 [P].

闫志强 .

中国专利 :CN214496464U ,2021-10-26

[3]

一种离子束镀膜设备及其镀膜方法 [P].

范江华 ;

佘鹏程 ;

周立平 ;

巴塞 ;

袁祖浩 ;

程文进 .

中国专利 :CN112899633B ,2021-06-04

[4]

一种离子束镀膜聚焦离子源 [P].

安建昊 ;

唐欢欢 .

中国专利 :CN211125568U ,2020-07-28

[5]

一种射频离子源中和器及离子束溅射沉积和刻蚀设备 [P].

李正磊 ;

卓永生 ;

杨方宝 .

中国专利 :CN221352705U ,2024-07-16

[6]

离子束设备用双灯丝中和器 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN209619443U ,2019-11-12

[7]

离子束设备用双灯丝中和器 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN109881174A ,2019-06-14

[8]

多功能离子束溅射沉积与刻蚀设备 [P].

龙世兵 ;

刘明 ;

陈宝钦 ;

谢常青 ;

贾锐 ;

徐连生 .

中国专利 :CN101880863A ,2010-11-10

[9]

一种应用于离子束非金属刻蚀的中和器系统 [P].

郑林 ;

吴洪文 ;

石慧 ;

李媛 ;

崔云涛 ;

王得信 .

中国专利 :CN112992644A ,2021-06-18

[10]

一种制备风速管防冰敷涂层的离子束镀膜装置 [P].

金杰 ;

黄晓林 ;

王月 .

中国专利 :CN205529015U ,2016-08-31

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