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半导体器件、半导体器件的制备方法和芯片
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311252868.6
申请日
:
2023-09-26
公开(公告)号
:
CN119730370A
公开(公告)日
:
2025-03-28
发明(设计)人
:
王启权
赵汇涛
许达
董紫剑
申请人
:
华为技术有限公司
申请人地址
:
518129 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼
IPC主分类号
:
H10D84/85
IPC分类号
:
H10D84/03
代理机构
:
北京龙双利达知识产权代理有限公司 11329
代理人
:
王君;肖鹂
法律状态
:
公开
国省代码
:
广东省 深圳市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-03-28
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件的制备方法和半导体器件
[P].
白杰
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白杰
.
中国专利
:CN112885771A
,2021-06-01
[2]
半导体器件、半导体器件的制造方法以及芯片
[P].
张露
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
张露
;
黄元琪
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
黄元琪
;
温雅楠
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
温雅楠
;
吴俊慷
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
吴俊慷
;
丁泊宁
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
丁泊宁
;
赵智彪
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
赵智彪
;
许俊豪
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
许俊豪
.
中国专利
:CN117747618A
,2024-03-22
[3]
半导体器件及半导体器件的制备方法
[P].
赵静
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赵静
;
张臣雄
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张臣雄
.
中国专利
:CN108369946A
,2018-08-03
[4]
制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
吕俊颉
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吕俊颉
;
让-皮埃尔·科林格
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让-皮埃尔·科林格
;
后藤贤一
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后藤贤一
;
吴志强
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吴志强
;
林佑明
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林佑明
.
中国专利
:CN109103084B
,2018-12-28
[5]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
杨智铨
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
杨智铨
;
徐国修
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
徐国修
;
张峰铭
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张峰铭
;
林建隆
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林建隆
;
洪连嵘
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
洪连嵘
.
中国专利
:CN113257816B
,2025-01-14
[6]
半导体器件和半导体器件的制造方法
[P].
园田真久
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园田真久
;
井口直
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井口直
;
角田弘昭
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角田弘昭
;
坂上荣人
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坂上荣人
.
中国专利
:CN1490882A
,2004-04-21
[7]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
杨智铨
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杨智铨
;
徐国修
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徐国修
;
张峰铭
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张峰铭
;
林建隆
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林建隆
;
洪连嵘
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洪连嵘
.
中国专利
:CN113257816A
,2021-08-13
[8]
半导体器件和制造半导体器件的方法
[P].
尾藤康则
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尾藤康则
.
中国专利
:CN102569296A
,2012-07-11
[9]
半导体器件、半导体器件阵列结构和半导体器件制造方法
[P].
薛珉洙
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
薛珉洙
;
卞卿溵
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
卞卿溵
;
金昌炫
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金昌炫
;
李殷奎
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李殷奎
.
韩国专利
:CN119835999A
,2025-04-15
[10]
半导体器件以及形成半导体器件的方法
[P].
让-皮埃尔·科林格
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让-皮埃尔·科林格
;
江国诚
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江国诚
;
张广兴
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张广兴
;
吴志强
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吴志强
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王志豪
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王志豪
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卡洛斯·H.·迪亚兹
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卡洛斯·H.·迪亚兹
.
中国专利
:CN104218083B
,2014-12-17
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