蚀刻剂组合物及相关方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380078658.1

申请日：

2023-10-03

公开(公告)号：

CN120265729A

公开(公告)日：

2025-07-04

发明(设计)人：

S·M·比洛德 C·叶文埃斯

申请人：

恩特格里斯公司

申请人地址：

美国马萨诸塞州

IPC主分类号：

C09K13/04

IPC分类号：

H01L21/311

代理机构：

北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287

代理人：

李婷

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-22	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09K 13/04申请日:20231003
2025-07-04	公开	公开

共 50 条

[1]

选择性蚀刻剂组合物及方法 [P].

吴幸臻 ;

杨闵杰 ;

A·廖 ;

戴雯华 ;

蓝惟龄 .

美国专利 :CN117425717A ,2024-01-19

[2]

蚀刻剂组合物和方法 [P].

R·J·杜兰特 ;

李承璡 ;

T·P·塔法诺 ;

朴英哲 ;

李俊雨 ;

李承傭 ;

李鉉奎 ;

李喻珍 ;

S·H·张 .

中国专利 :CN102395708A ,2012-03-28

[3]

一种蚀刻组合物、蚀刻方法及应用 [P].

吴祥 ;

李卫民 .

中国专利 :CN115011350A ,2022-09-06

[4]

蚀刻剂组合物和使用蚀刻剂组合物的金属图案的制造方法 [P].

朴种熙 ;

金基泰 ;

金真锡 ;

金奎布 ;

申贤哲 ;

李大雨 ;

李相赫 .

中国专利 :CN110387545B ,2019-10-29

[5]

蚀刻剂组合物 [P].

刘仁浩 ;

鞠仁说 ;

南基龙 ;

朴英哲 ;

尹暎晋 ;

李昔准 .

中国专利 :CN104250814A ,2014-12-31

[6]

蚀刻剂组合物 [P].

安吉拉·海克 ;

王洪志 ;

大卫·罗 .

中国专利 :CN112385019A ,2021-02-19

[7]

蚀刻剂组合物 [P].

安吉拉·海克 ;

王洪志 ;

大卫·罗 .

:CN112385019B ,2025-04-29

[8]

氮化硅蚀刻组合物及方法 [P].

S·M·比洛德 ;

洪性辰 ;

吴幸臻 ;

杨闵杰 ;

E·I·库珀 .

中国专利 :CN112996881A ,2021-06-18

[9]

氮化物蚀刻剂组合物和方法 [P].

E·洪 ;

洪性辰 ;

金元来 ;

梁正烈 ;

蔡升贤 ;

余珠姬 .

美国专利 :CN116096837B ,2025-05-13

[10]

蚀刻剂组合物和方法 [P].

梁正烈 ;

洪亨杓 ;

余珠姬 ;

洪性辰 ;

金元来 .

美国专利 :CN119256120A ,2025-01-03

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