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在线膜厚测量装置以及在线膜厚测量方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202310914421.4
申请日
:
2023-07-24
公开(公告)号
:
CN116904954B
公开(公告)日
:
2025-07-29
发明(设计)人
:
刘振新
黄周师
吴毛兵
屈新成
何坤鹏
申请人
:
江苏先导微电子科技有限公司
申请人地址
:
221116 江苏省徐州市高新技术产业开发区先导南路2号
IPC主分类号
:
C23C14/54
IPC分类号
:
C23C14/56
C23C14/24
代理机构
:
北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387
代理人
:
张向琨
法律状态
:
授权
国省代码
:
江苏省 徐州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-07-29
授权
授权
共 50 条
[1]
膜厚测量装置以及膜厚测量方法
[P].
川口史朗
论文数:
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川口史朗
;
中嶋一八
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中嶋一八
.
中国专利
:CN112781506A
,2021-05-11
[2]
膜厚测量装置和膜厚测量方法
[P].
张建楠
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张建楠
;
封宾
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封宾
;
袁剑峰
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袁剑峰
.
中国专利
:CN103994740A
,2014-08-20
[3]
膜厚测量装置及膜厚测量方法
[P].
高濑惠宏
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高濑惠宏
;
中西英俊
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中西英俊
;
木濑一夫
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木濑一夫
;
河野元宏
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河野元宏
;
川山巌
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川山巌
;
斗内政吉
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斗内政吉
.
中国专利
:CN108027236A
,2018-05-11
[4]
膜厚测量装置及膜厚测量方法
[P].
大冢贤一
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
大冢贤一
;
增冈英树
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
增冈英树
;
井口和也
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
井口和也
.
日本专利
:CN120344818A
,2025-07-18
[5]
膜厚测量方法及膜厚测量装置
[P].
大塚贤一
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大塚贤一
;
中野哲寿
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中野哲寿
.
中国专利
:CN105940282A
,2016-09-14
[6]
膜厚测量方法、膜厚测量系统
[P].
田帅飞
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
田帅飞
;
陶泽
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
陶泽
;
杨康
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
杨康
.
中国专利
:CN119230431A
,2024-12-31
[7]
膜厚测量方法、膜厚测量系统
[P].
田帅飞
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
田帅飞
;
陶泽
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
陶泽
;
杨康
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机构:
武汉颐光科技有限公司
武汉颐光科技有限公司
杨康
.
中国专利
:CN119230431B
,2025-11-04
[8]
膜厚测量装置及膜厚测量方法
[P].
年婷
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年婷
.
中国专利
:CN108120409B
,2018-06-05
[9]
膜厚测量装置及膜厚测量方法
[P].
大冢贤一
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
大冢贤一
;
增冈英树
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
增冈英树
;
井口和也
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
井口和也
.
日本专利
:CN120303531A
,2025-07-11
[10]
膜厚测量装置以及测量方法
[P].
大塚贤一
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大塚贤一
;
中野哲寿
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中野哲寿
;
渡边元之
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渡边元之
.
中国专利
:CN102341670B
,2012-02-01
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