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基于硅上压电薄膜结构的体声波谐振器及制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011332618.X
申请日
:
2020-11-24
公开(公告)号
:
CN112350679B
公开(公告)日
:
2025-09-09
发明(设计)人
:
高安明
姜伟
刘伟
申请人
:
浙江星曜半导体有限公司
申请人地址
:
325038 浙江省温州市浙南科技城创新创业新天地一期1号楼506室(自主申报)
IPC主分类号
:
H03H3/007
IPC分类号
:
H03H3/02
H03H3/04
H03H9/02
H03H9/17
H03H9/19
H10N30/01
H10N30/00
代理机构
:
上海段和段律师事务所 31334
代理人
:
李佳俊;郭国中
法律状态
:
授权
国省代码
:
浙江省 温州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-09-09
授权
授权
共 50 条
[1]
基于硅上压电薄膜结构的体声波谐振器及制备方法
[P].
高安明
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高安明
;
姜伟
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姜伟
;
刘伟
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刘伟
.
中国专利
:CN112350679A
,2021-02-09
[2]
硅基压电薄膜体声波谐振器
[P].
高安明
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高安明
;
姜伟
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姜伟
;
刘伟
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刘伟
.
中国专利
:CN213879775U
,2021-08-03
[3]
基于绝缘体硅基片的薄膜体声波谐振器及通信器件
[P].
张树民
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张树民
;
王国浩
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王国浩
;
房华
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房华
.
中国专利
:CN206542386U
,2017-10-03
[4]
带有支撑结构的薄膜体声波谐振器及通信器件
[P].
张树民
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张树民
;
王国浩
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王国浩
;
房华
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房华
.
中国专利
:CN206542385U
,2017-10-03
[5]
薄膜腔体声波谐振器的制备方法、薄膜腔体声波谐振器
[P].
李国强
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李国强
.
中国专利
:CN115333497A
,2022-11-11
[6]
基于SOI基片的薄膜体声波谐振器及其制备方法
[P].
张树民
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张树民
;
王国浩
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王国浩
;
房华
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房华
.
中国专利
:CN107222181A
,2017-09-29
[7]
带有支撑结构的薄膜体声波谐振器及其制备方法
[P].
张树民
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张树民
;
王国浩
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王国浩
;
房华
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房华
.
中国专利
:CN107231138A
,2017-10-03
[8]
压电薄膜体声波谐振器及其制备方法
[P].
朱宇波
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机构:
上海集成电路材料研究院有限公司
上海集成电路材料研究院有限公司
朱宇波
;
李卫民
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机构:
上海集成电路材料研究院有限公司
上海集成电路材料研究院有限公司
李卫民
;
母志强
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机构:
上海集成电路材料研究院有限公司
上海集成电路材料研究院有限公司
母志强
;
吴挺俊
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机构:
上海集成电路材料研究院有限公司
上海集成电路材料研究院有限公司
吴挺俊
;
朱雷
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机构:
上海集成电路材料研究院有限公司
上海集成电路材料研究院有限公司
朱雷
;
俞文杰
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机构:
上海集成电路材料研究院有限公司
上海集成电路材料研究院有限公司
俞文杰
.
中国专利
:CN113708740B
,2024-04-26
[9]
压电薄膜体声波谐振器及其制备方法
[P].
朱宇波
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朱宇波
;
李卫民
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李卫民
;
母志强
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母志强
;
吴挺俊
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吴挺俊
;
朱雷
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朱雷
;
俞文杰
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俞文杰
.
中国专利
:CN113708740A
,2021-11-26
[10]
薄膜体声波谐振器
[P].
张树民
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张树民
;
王国浩
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王国浩
;
汪泉
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汪泉
.
中国专利
:CN209930221U
,2020-01-10
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