晶圆湿法蚀刻方法及湿法蚀刻装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202510848867.0
申请日
2025-06-23
公开(公告)号
CN120637220A
公开(公告)日
2025-09-12
发明(设计)人
周泽坤
申请人
广州增芯科技有限公司
申请人地址
511365 广东省广州市增城区宁西街创优路333号
IPC主分类号
H01L21/306
IPC分类号
H01L21/67 H01L21/66
代理机构
北京超凡宏宇知识产权代理有限公司 11463
代理人
崔熠
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
湿法蚀刻设备及湿法蚀刻方法 [P]. 
夏青林 .
中国专利 :CN106992136A ,2017-07-28
[2]
湿法蚀刻设备及湿法蚀刻方法 [P]. 
吴祥 ;
李卫民 .
中国专利 :CN115148643A ,2022-10-04
[3]
湿法蚀刻设备及湿法蚀刻方法 [P]. 
吴祥 ;
李卫民 .
中国专利 :CN115148643B ,2025-05-13
[4]
湿法蚀刻方法 [P]. 
唐磊 ;
邱宗钰 ;
陈庆鸿 .
中国专利 :CN119049965A ,2024-11-29
[5]
晶片湿法蚀刻装置及其湿法蚀刻方法 [P]. 
彭国豪 ;
曾国邦 .
中国专利 :CN1959938B ,2007-05-09
[6]
湿法蚀刻装置及方法 [P]. 
廖世保 ;
颜崧义 ;
冉琦 ;
荣楠 .
中国专利 :CN101397667A ,2009-04-01
[7]
一种半导体晶圆湿法蚀刻装置 [P]. 
江富杰 .
中国专利 :CN208923040U ,2019-05-31
[8]
一种湿法蚀刻装置及湿法蚀刻方法 [P]. 
唐恝 ;
范凯平 ;
邓梓阳 ;
姚晓薇 ;
卢淑欣 ;
于倩倩 .
中国专利 :CN116387185B ,2025-12-16
[9]
一种晶圆湿法蚀刻辅助装置 [P]. 
黄仁贵 .
中国专利 :CN221613840U ,2024-08-27
[10]
一种晶圆湿法蚀刻装置 [P]. 
王静强 ;
胡兴华 ;
徐福兴 .
中国专利 :CN222720355U ,2025-04-04