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一种半导体硅晶片平洗装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202511087708.X
申请日
:
2025-08-05
公开(公告)号
:
CN120895523A
公开(公告)日
:
2025-11-04
发明(设计)人
:
徐海涛
李中亮
程文娟
申请人
:
青岛金汇源电子有限公司
申请人地址
:
266400 山东省青岛市黄岛区滨海大道南山川路东(黄岛区委党校)
IPC主分类号
:
H01L21/683
IPC分类号
:
H01L21/67
B08B3/02
B08B11/02
代理机构
:
山东华领科信知识产权代理事务所(普通合伙) 37449
代理人
:
汪亚强
法律状态
:
公开
国省代码
:
山东省 青岛市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-11-04
公开
公开
2025-11-21
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/683申请日:20250805
共 50 条
[1]
半导体生产用硅晶片平洗装置
[P].
请求不公布姓名
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
苏州鸿望电子科技有限公司
苏州鸿望电子科技有限公司
请求不公布姓名
.
中国专利
:CN119870040A
,2025-04-25
[2]
一种半导体生产用硅晶片平洗装置
[P].
曲忠清
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
曲忠清
.
中国专利
:CN216606403U
,2022-05-27
[3]
一种半导体生产用硅晶片平洗装置
[P].
王树丽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏威森美微电子有限公司
江苏威森美微电子有限公司
王树丽
;
李敏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏威森美微电子有限公司
江苏威森美微电子有限公司
李敏
.
中国专利
:CN222088541U
,2024-11-29
[4]
一种半导体生产用硅晶片平洗装置
[P].
韩玟锡
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
海世高半导体科技(苏州)有限公司
海世高半导体科技(苏州)有限公司
韩玟锡
;
曹龙吉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
海世高半导体科技(苏州)有限公司
海世高半导体科技(苏州)有限公司
曹龙吉
;
南商一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
海世高半导体科技(苏州)有限公司
海世高半导体科技(苏州)有限公司
南商一
;
徐伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
海世高半导体科技(苏州)有限公司
海世高半导体科技(苏州)有限公司
徐伟
;
全文峰
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
海世高半导体科技(苏州)有限公司
海世高半导体科技(苏州)有限公司
全文峰
.
中国专利
:CN119786393A
,2025-04-08
[5]
一种半导体生产用硅晶片平洗装置
[P].
刘丽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
周兴宁
周兴宁
刘丽
.
中国专利
:CN118577562B
,2025-07-25
[6]
一种半导体生产用硅晶片平洗装置
[P].
刘丽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
苏州鸿望电子科技有限公司
苏州鸿望电子科技有限公司
刘丽
.
中国专利
:CN118577562A
,2024-09-03
[7]
硅晶片和半导体装置
[P].
大见忠弘
论文数:
0
引用数:
0
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0
大见忠弘
;
寺本章伸
论文数:
0
引用数:
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0
寺本章伸
;
诹访智之
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
诹访智之
.
中国专利
:CN102741977A
,2012-10-17
[8]
硅晶片、半导体装置、硅晶片的制造方法以及半导体装置的制造方法
[P].
高木明英
论文数:
0
引用数:
0
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0
高木明英
;
中村昌次
论文数:
0
引用数:
0
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0
中村昌次
;
西野光俊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
西野光俊
;
大竹保年
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
大竹保年
.
中国专利
:CN102947948B
,2013-02-27
[9]
一种半导体硅晶片的加工设备
[P].
高德帅
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
高德帅
.
中国专利
:CN112157828A
,2021-01-01
[10]
一种半导体加工硅晶片切割设备
[P].
杨震民
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杨震民
.
中国专利
:CN216229614U
,2022-04-08
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