一种MOSFET器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202211730269.6
申请日
2022-12-30
公开(公告)号
CN116031160B
公开(公告)日
2025-11-21
发明(设计)人
夏亮 朱治鼎 王蒙
申请人
深圳市创芯微微电子有限公司
申请人地址
518000 广东省深圳市龙岗区宝龙街道宝龙社区宝荷大道76号智慧家园二期3A28楼
IPC主分类号
H10D30/01
IPC分类号
H10D30/60 H10D62/10
代理机构
深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) 44325
代理人
谭果林
法律状态
授权
国省代码
广东省 深圳市
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共 50 条
[1]
一种MOSFET器件及其制造方法 [P]. 
徐守一 ;
陈志鹏 ;
赖银坤 ;
蔡铭进 .
中国专利 :CN120358769A ,2025-07-22
[2]
带有屏蔽栅结构MOSFET器件及其制造方法 [P]. 
颜树范 ;
刘须电 .
中国专利 :CN113782585B ,2024-01-23
[3]
带有屏蔽栅结构MOSFET器件及其制造方法 [P]. 
颜树范 ;
刘须电 .
中国专利 :CN113782585A ,2021-12-10
[4]
一种分离栅MOSFET器件结构及其制造方法 [P]. 
殷允超 ;
周祥瑞 ;
刘锋 .
中国专利 :CN108767004A ,2018-11-06
[5]
一种分离栅MOSFET器件结构及其制造方法 [P]. 
殷允超 ;
周祥瑞 ;
刘锋 .
中国专利 :CN108767004B ,2024-02-09
[6]
一种低导通电阻的沟槽MOSFET器件及其制造方法 [P]. 
殷允超 ;
周祥瑞 .
中国专利 :CN108649072B ,2024-02-02
[7]
一种低导通电阻的沟槽MOSFET器件及其制造方法 [P]. 
殷允超 ;
周祥瑞 .
中国专利 :CN108649072A ,2018-10-12
[8]
一种浅槽MOSFET的器件结构及其制造方法 [P]. 
杨超 ;
陈铭阳 ;
陈志阳 ;
徐彩云 ;
丁浩宸 .
中国专利 :CN115548122A ,2022-12-30
[9]
一种MOSFET器件的制造方法及其器件 [P]. 
左义忠 ;
曹务臣 ;
于博伟 ;
贾国 ;
迟永欣 .
中国专利 :CN106098561A ,2016-11-09
[10]
一种SiC MOSFET器件元胞及其制造方法 [P]. 
易波 ;
伍争 ;
魏文静 ;
张千 ;
向勇 .
中国专利 :CN112086507A ,2020-12-15