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抗蚀剂下层膜形成用组合物

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202480031499.4
申请日：
2024-05-08
公开(公告)号：
CN121079643A
公开(公告)日：
2025-12-05
发明(设计)人：
水落龙太 田村护
申请人：
日产化学株式会社
申请人地址：
日本国东京都
IPC主分类号：
G03F7/11
IPC分类号：
C08F212/02 C08L25/00 G03F7/038 G03F7/039 H01L21/027
代理机构：
北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444
代理人：
孙明;张黎
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-12-05 公开 公开
2025-12-23 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/11申请日:20240508
共 50 条
[1]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
光武祐希 ;
德永光 .
日本专利 :CN120641829A ,2025-09-12
[2]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
清水祥 ;
井形航维 ;
田村护 .
日本专利 :CN119301526A ,2025-01-10
[3]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
境田康志 ;
高濑显司 ;
岸冈高广 ;
坂本力丸 .
中国专利 :CN109073977B ,2018-12-21
[4]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN115427891A ,2022-12-02
[5]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
西卷裕和 ;
中岛诚 .
中国专利 :CN114503032A ,2022-05-13
[6]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
井形航维 ;
清水祥 ;
田村护 .
日本专利 :CN117836718A ,2024-04-05
[7]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
广原知忠 ;
绪方裕斗 ;
田村护 .
日本专利 :CN119998732A ,2025-05-13
[8]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
泉皓仁 ;
远藤雅久 .
日本专利 :CN120883140A ,2025-10-31
[9]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
水落龙太 ;
井形航维 ;
田村护 .
日本专利 :CN120677437A ,2025-09-19
[10]
抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P]. 
绪方裕斗 ;
广原知忠 ;
桥本圭祐 ;
中岛诚 ;
岸冈高广 .
中国专利 :CN112513738A ,2021-03-16
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