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化学气相沉积设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202520102298.0
申请日
:
2025-01-16
公开(公告)号
:
CN223674734U
公开(公告)日
:
2025-12-16
发明(设计)人
:
王树林
李鹏飞
袁运辉
李阳阳
申请人
:
浙江晶盛光子科技有限公司
申请人地址
:
311103 浙江省杭州市临平区经济技术开发区顺达路500号1幢105室
IPC主分类号
:
C23C16/44
IPC分类号
:
C23C18/32
代理机构
:
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
:
刘臣刚
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-12-16
授权
授权
共 50 条
[1]
化学气相沉积设备
[P].
周向阳
论文数:
0
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0
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机构:
乐金显示光电科技(中国)有限公司
乐金显示光电科技(中国)有限公司
周向阳
.
中国专利
:CN222923231U
,2025-05-30
[2]
一种喷淋机构及化学气相沉积设备
[P].
傅林坚
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机构:
浙江求是半导体设备有限公司
浙江求是半导体设备有限公司
傅林坚
;
刘毅
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机构:
浙江求是半导体设备有限公司
浙江求是半导体设备有限公司
刘毅
;
曹建伟
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机构:
浙江求是半导体设备有限公司
浙江求是半导体设备有限公司
曹建伟
;
朱亮
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机构:
浙江求是半导体设备有限公司
浙江求是半导体设备有限公司
朱亮
;
鲁冲昊
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机构:
浙江求是半导体设备有限公司
浙江求是半导体设备有限公司
鲁冲昊
;
朱亿江
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机构:
浙江求是半导体设备有限公司
浙江求是半导体设备有限公司
朱亿江
.
中国专利
:CN222008178U
,2024-11-15
[3]
化学气相沉积炉及化学气相沉积设备
[P].
朱伟杰
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朱伟杰
;
顾志强
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顾志强
;
戴建庭
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戴建庭
;
董宁
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董宁
;
李强
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李强
.
中国专利
:CN209522919U
,2019-10-22
[4]
化学气相沉积设备
[P].
梁秉文
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梁秉文
.
中国专利
:CN202705462U
,2013-01-30
[5]
化学气相沉积设备
[P].
胡昌义
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胡昌义
;
雷春明
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雷春明
;
毛勇
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毛勇
;
郭锦新
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郭锦新
;
李靖华
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李靖华
;
周世平
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周世平
;
徐云
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徐云
;
王云
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王云
;
欧阳远良
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欧阳远良
.
中国专利
:CN2851277Y
,2006-12-27
[6]
化学气相沉积设备
[P].
杨贤烁
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机构:
乐金显示光电科技(中国)有限公司
乐金显示光电科技(中国)有限公司
杨贤烁
.
中国专利
:CN221275883U
,2024-07-05
[7]
化学气相沉积设备
[P].
周向阳
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机构:
乐金显示光电科技(中国)有限公司
乐金显示光电科技(中国)有限公司
周向阳
.
中国专利
:CN223176201U
,2025-08-01
[8]
化学气相沉积设备
[P].
丁欣
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丁欣
.
中国专利
:CN209010598U
,2019-06-21
[9]
化学气相沉积设备
[P].
艾青南
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艾青南
;
周贺
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周贺
;
胡青飞
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胡青飞
.
中国专利
:CN103924217A
,2014-07-16
[10]
化学气相沉积设备
[P].
陈雄博
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陈雄博
;
罗光林
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罗光林
.
中国专利
:CN203049032U
,2013-07-10
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