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化学气相沉积设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202520102298.0
申请日
:
2025-01-16
公开(公告)号
:
CN223674734U
公开(公告)日
:
2025-12-16
发明(设计)人
:
王树林
李鹏飞
袁运辉
李阳阳
申请人
:
浙江晶盛光子科技有限公司
申请人地址
:
311103 浙江省杭州市临平区经济技术开发区顺达路500号1幢105室
IPC主分类号
:
C23C16/44
IPC分类号
:
C23C18/32
代理机构
:
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
:
刘臣刚
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-12-16
授权
授权
共 50 条
[31]
化学气相沉积设备
[P].
朱人伟
论文数:
0
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
朱人伟
;
杨军
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
杨军
;
朱瑶
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
朱瑶
;
胡万春
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
胡万春
.
中国专利
:CN222250974U
,2024-12-27
[32]
化学气相沉积设备
[P].
张祥来
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张祥来
;
李相琝
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李相琝
.
中国专利
:CN101591774A
,2009-12-02
[33]
化学气相沉积设备
[P].
梁秉文
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梁秉文
.
中国专利
:CN103074615A
,2013-05-01
[34]
化学气相沉积设备
[P].
叶致宏
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叶致宏
;
李宗霖
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李宗霖
;
林艺民
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林艺民
;
杨胜钧
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杨胜钧
;
曾同庆
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曾同庆
.
中国专利
:CN109763115A
,2019-05-17
[35]
化学气相沉积设备
[P].
李丙科
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李丙科
.
中国专利
:CN305619181S
,2020-02-18
[36]
化学气相沉积设备
[P].
金宰湖
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金宰湖
;
朴相俊
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朴相俊
.
中国专利
:CN1302152C
,2002-10-23
[37]
化学气相沉积设备
[P].
張珉碩
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机构:
重庆欣晖材料技术有限公司
重庆欣晖材料技术有限公司
張珉碩
.
中国专利
:CN118835219A
,2024-10-25
[38]
化学气相沉积设备
[P].
陈五奎
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陈五奎
;
任陈平
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任陈平
;
李文江
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李文江
.
中国专利
:CN301589889S
,2011-06-22
[39]
化学气相沉积设备
[P].
布莱恩·H·布尔洛斯
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布莱恩·H·布尔洛斯
;
罗纳德·史蒂文斯
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罗纳德·史蒂文斯
;
雅各布·格雷森
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雅各布·格雷森
;
约书亚·J·帕德斯塔
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约书亚·J·帕德斯塔
;
萨迪普·尼哈万
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萨迪普·尼哈万
;
劳瑞·D·华盛顿
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劳瑞·D·华盛顿
;
亚历山大·泰姆
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亚历山大·泰姆
;
苏玫德·阿凯亚
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苏玫德·阿凯亚
.
中国专利
:CN102498557A
,2012-06-13
[40]
化学气相沉积设备
[P].
仰卫
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仰卫
.
中国专利
:CN107435141A
,2017-12-05
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