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化学气相沉积设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202520102298.0
申请日
:
2025-01-16
公开(公告)号
:
CN223674734U
公开(公告)日
:
2025-12-16
发明(设计)人
:
王树林
李鹏飞
袁运辉
李阳阳
申请人
:
浙江晶盛光子科技有限公司
申请人地址
:
311103 浙江省杭州市临平区经济技术开发区顺达路500号1幢105室
IPC主分类号
:
C23C16/44
IPC分类号
:
C23C18/32
代理机构
:
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
:
刘臣刚
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-12-16
授权
授权
共 50 条
[21]
一种化学气相沉积设备及方法
[P].
请求不公布姓名
论文数:
0
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0
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机构:
新美光(苏州)半导体科技有限公司
新美光(苏州)半导体科技有限公司
请求不公布姓名
;
请求不公布姓名
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机构:
新美光(苏州)半导体科技有限公司
新美光(苏州)半导体科技有限公司
请求不公布姓名
;
请求不公布姓名
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机构:
新美光(苏州)半导体科技有限公司
新美光(苏州)半导体科技有限公司
请求不公布姓名
;
请求不公布姓名
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机构:
新美光(苏州)半导体科技有限公司
新美光(苏州)半导体科技有限公司
请求不公布姓名
.
中国专利
:CN116988049B
,2024-01-16
[22]
化学气相沉积设备
[P].
郭国平
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郭国平
;
杨晖
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杨晖
;
李海欧
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李海欧
;
曹刚
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曹刚
;
肖明
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肖明
;
郭光灿
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郭光灿
.
中国专利
:CN207418858U
,2018-05-29
[23]
化学气相沉积设备
[P].
梁秉文
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梁秉文
.
中国专利
:CN203007404U
,2013-06-19
[24]
化学气相沉积设备
[P].
梁秉文
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梁秉文
;
黄颖泉
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黄颖泉
.
中国专利
:CN202705470U
,2013-01-30
[25]
化学气相沉积设备
[P].
李景伦
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李景伦
.
中国专利
:CN201530864U
,2010-07-21
[26]
化学气相沉积设备
[P].
李一成
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李一成
;
汪宇澄
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汪宇澄
.
中国专利
:CN202499905U
,2012-10-24
[27]
化学气相沉积设备
[P].
左敏
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左敏
.
中国专利
:CN206256165U
,2017-06-16
[28]
化学气相沉积设备的密封装置以及化学气相沉积设备
[P].
马彪
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
马彪
.
中国专利
:CN221097428U
,2024-06-07
[29]
化学气相沉积设备
[P].
金昶成
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金昶成
;
刘相德
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刘相德
;
洪钟波
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洪钟波
;
沈智慧
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沈智慧
;
李元申
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李元申
.
中国专利
:CN102230167A
,2011-11-02
[30]
化学气相沉积设备
[P].
裴绍凯
论文数:
0
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0
裴绍凯
.
中国专利
:CN102108498B
,2011-06-29
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