MECHANISMS OF POSITIVE GATE-BIAS STRESS-INDUCED INSTABILITIES IN CMOS TRANSISTORS

被引:5
作者
DIMITRIJEV, S [1 ]
ZUPAC, D [1 ]
STOJADINOVIC, N [1 ]
机构
[1] UNIV NIS, FAC ELECTR ENGN, BEOGRADSKA 14, YU-18000 NIS, YUGOSLAVIA
关键词
D O I
10.1016/0026-2714(87)90762-1
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
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页码:1001 / 1016
页数:16
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