OXIDATION OF SILICON BY ION-IMPLANTATION AND LASER IRRADIATION

被引:9
作者
CHIANG, SW
LIU, YS
REIHL, RF
机构
关键词
D O I
10.1063/1.92879
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
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页码:752 / 754
页数:3
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