A STUDY OF NUCLEATION IN CHEMICALLY GROWN EPITAXIAL SILICON FILMS USING MOLECULAR BEAM TECHNIQUES .2. INITIAL GROWTH BEHAVIOUR ON CLEAN AND CARBON-CONTAMINATED SILICON SUBSTRATES

被引:72
作者
BOOKER, GR
JOYCE, BA
机构
来源
PHILOSOPHICAL MAGAZINE | 1966年 / 14卷 / 128期
关键词
D O I
10.1080/14786436608219013
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:301 / &
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