半导体器件的形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201310697888.4
申请日
2013-12-18
公开(公告)号
CN104733309A
公开(公告)日
2015-06-24
发明(设计)人
刘佳磊
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2128
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
骆苏华
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN110634742A ,2019-12-31
[2]
半导体器件的形成方法 [P]. 
黄敬勇 ;
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半导体器件的形成方法 [P]. 
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半导体器件及其形成方法 [P]. 
洪中山 .
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半导体器件及其形成方法 [P]. 
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半导体器件及其形成方法 [P]. 
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半导体器件及其形成方法 [P]. 
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半导体器件的形成方法及半导体器件 [P]. 
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