半导体装置及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200910221306.9
申请日
2009-11-11
公开(公告)号
CN101740634B
公开(公告)日
2010-06-16
发明(设计)人
桑原秀明 秋元健吾 佐佐木俊成
申请人
申请人地址
日本神奈川
IPC主分类号
H01L29786
IPC分类号
H01L2924 H01L2134 H01L21203 H01L213205 H01L2702
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
秦晨
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[41]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
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今井元 ;
越智久雄 ;
藤田哲生 ;
北川英树 ;
铃木正彦 ;
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[42]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
秋元健吾 .
中国专利 :CN101728433A ,2010-06-09
[43]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
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[46]
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伊东一笃 .
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[47]
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[48]
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[49]
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[50]
半导体装置以及半导体装置的制造方法 [P]. 
山崎舜平 ;
宫入秀和 ;
宫永昭治 ;
秋元健吾 ;
白石康次郎 .
中国专利 :CN101640221B ,2010-02-03