化学气相沉积方法及利用其制造发光器件的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210210547.5

申请日：

2012-06-20

公开(公告)号：

CN102888594A

公开(公告)日：

2013-01-23

发明(设计)人：

金范埈金起成金荣善高德吉林珍永郑义俊

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道水原市

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C23C1652 H01L3300 H01L3306

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

韩明星

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-03-18	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101712287056 IPC(主分类):C23C 16/44 专利申请号:2012102105475 申请公布日:20130123
2013-01-23	公开	公开

共 50 条

[1]

制造半导体发光器件的方法以及化学气相沉积设备 [P].

韩尚宪 ;

金南星 ;

金东俊 ;

司空坦 ;

申东益 ;

李焘英 ;

李庭旭 .

中国专利 :CN103996753A ,2014-08-20

[2]

化学气相沉积装置和化学气相沉积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

直井弘之 ;

H·X·王 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1259450C ,2002-04-17

[3]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘忠范 ;

亓月 ;

杨钰垚 ;

袁昊 .

中国专利 :CN118814133A ,2024-10-22

[4]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN102851651A ,2013-01-02

[5]

化学气相沉积方法 [P].

孙旭海 ;

刘满成 .

中国专利 :CN121204634A ,2025-12-26

[6]

化学气相沉积方法 [P].

徐兴国 ;

张凌越 ;

姜波 .

中国专利 :CN113046731A ,2021-06-29

[7]

化学气相沉积设备和使用该设备制造发光器件的方法 [P].

金俊佑 ;

竹谷元伸 ;

许寅会 ;

金秋浩 ;

李在凤 .

中国专利 :CN103329249A ,2013-09-25

[8]

化学气相沉积装置、化学气相沉积方法 [P].

周鸣 .

中国专利 :CN103060772B ,2013-04-24

[9]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[10]

化学气相沉积设备和利用其制造显示设备的方法 [P].

朴钟勋 ;

郑石源 ;

朱儇佑 ;

崔宰赫 ;

闵庚柱 ;

朴元雄 .

中国专利 :CN109234708B ,2019-01-18

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