曝光装置及曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210586861.3

申请日：

2012-12-28

公开(公告)号：

CN103901730B

公开(公告)日：

2014-07-02

发明(设计)人：

许琦欣郑乐平

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-08-08	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101756816588 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2012105868613 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市浦东新区张东路1525号变更后:201203 上海市浦东新区张东路1525号
2014-07-02	公开	公开
2014-07-30	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101584081291 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2012105868613 申请日:20121228
2016-08-24	授权	授权

共 50 条

[1]

曝光装置以及曝光方法 [P].

今井洋之 .

中国专利 :CN109557768A ,2019-04-02

[2]

一种曝光方法及其曝光装置 [P].

许琦欣 ;

王帆 .

中国专利 :CN104375384A ,2015-02-25

[3]

曝光方法、器件制造方法、曝光装置、以及曝光系统 [P].

渡边阳司 .

日本专利 :CN118871862A ,2024-10-29

[4]

曝光装置及曝光方法 [P].

板羽昌行 ;

太田尚树 .

中国专利 :CN102566305B ,2012-07-11

[5]

图像曝光装置及方法 [P].

石川弘美 .

中国专利 :CN101080675A ,2007-11-28

[6]

曝光装置及检查方法 [P].

加藤正纪 ;

水野仁 ;

水野恭志 .

日本专利 :CN117581163A ,2024-02-20

[7]

曝光方法、曝光装置和器件制造方法 [P].

大和壮一 ;

渡边阳司 .

中国专利 :CN109164682B ,2019-01-08

[8]

曝光装置、曝光方法及电子器件的制造方法 [P].

加藤正纪 ;

水野仁 ;

水野恭志 .

日本专利 :CN117581162A ,2024-02-20

[9]

一种曝光装置及曝光方法 [P].

程琦 ;

陈飞彪 .

中国专利 :CN106154760B ,2016-11-23

[10]

曝光装置 [P].

加藤正纪 ;

水野恭志 ;

中岛利治 ;

藤村嘉彦 .

日本专利 :CN117616341A ,2024-02-27

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