一种稀磁半导体材料及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210593000.8
申请日
2012-12-31
公开(公告)号
CN103911660B
公开(公告)日
2014-07-09
发明(设计)人
赵侃 邓正 靳常青
申请人
申请人地址
100190 北京市海淀区中关村南三街8号
IPC主分类号
C30B2910
IPC分类号
H01F101
代理机构
北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280
代理人
王勇;王博
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种稀磁半导体材料制备方法 [P]. 
杨晓艳 .
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于爽 ;
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一种黄铜矿结构的稀磁半导体材料及其制备方法 [P]. 
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解娜娜 .
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
制备GaN基稀磁半导体材料的方法 [P]. 
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陈志涛 ;
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[10]
一种纳米结构可控的稀磁半导体材料及其制备方法与装置 [P]. 
曾德长 ;
马海力 ;
刘仲武 ;
余红雅 .
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