一种镧锶铜锰硫氧稀磁半导体材料及其制备方法

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专利类型
发明
申请号
CN201210475152.8
申请日
2012-11-20
公开(公告)号
CN102956814A
公开(公告)日
2013-03-06
发明(设计)人
许祝安 杨小军 曹光旱
申请人
申请人地址
310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号
IPC主分类号
H01L4310
IPC分类号
代理机构
杭州天勤知识产权代理有限公司 33224
代理人
胡红娟
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
一种稀磁半导体材料及其制备方法 [P]. 
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邓正 ;
靳常青 .
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[2]
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刘聪 ;
姚俊 ;
舒佳武 ;
薄伟强 ;
王世伟 ;
胡业旻 ;
朱明原 ;
金红明 .
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[3]
一种稀磁半导体材料制备方法 [P]. 
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[4]
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邓正 .
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[5]
一种黄铜矿结构的稀磁半导体材料及其制备方法 [P]. 
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[6]
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[7]
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[8]
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毋志民 ;
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[9]
制备GaN基稀磁半导体材料的方法 [P]. 
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陈志涛 ;
苏月永 ;
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[10]
一种纳米结构可控的稀磁半导体材料及其制备方法与装置 [P]. 
曾德长 ;
马海力 ;
刘仲武 ;
余红雅 .
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