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单晶体的制备方法及硅晶体
被引:0
申请号
:
CN202111619103.2
申请日
:
2021-12-27
公开(公告)号
:
CN114438585A
公开(公告)日
:
2022-05-06
发明(设计)人
:
王双丽
陈俊宏
申请人
:
申请人地址
:
221004 江苏省徐州市经济技术开发区鑫芯路1号
IPC主分类号
:
C30B1520
IPC分类号
:
C30B2906
代理机构
:
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201
代理人
:
黄德海
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-05-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 15/20 申请日:20211227
2022-05-06
公开
公开
共 50 条
[1]
单晶体的制备方法和硅晶体
[P].
王双丽
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王双丽
;
陈俊宏
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陈俊宏
.
中国专利
:CN114481302A
,2022-05-13
[2]
单晶生长的方法、装置及单晶体
[P].
王双丽
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王双丽
;
陈俊宏
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陈俊宏
.
中国专利
:CN113549997B
,2021-10-26
[3]
单晶体切割方法
[P].
奥克塔维安·菲利普
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奥克塔维安·菲利普
;
鲍里斯·埃佩尔鲍姆
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鲍里斯·埃佩尔鲍姆
;
马蒂亚斯·比克尔曼
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马蒂亚斯·比克尔曼
;
阿尔布雷希特·温纳克
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阿尔布雷希特·温纳克
;
保罗·海曼
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保罗·海曼
;
乌尔里希·赛茨
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乌尔里希·赛茨
.
中国专利
:CN104428115A
,2015-03-18
[4]
α-三氧化二铝单晶体的制备方法
[P].
钱幼平
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钱幼平
;
代成
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代成
;
唐大林
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唐大林
;
代成功
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代成功
;
王俊
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王俊
.
中国专利
:CN101942698B
,2011-01-12
[5]
单晶体缺陷的去除方法及用该方法去除缺陷的单晶体
[P].
古川纯
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古川纯
;
须藤充
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须藤充
;
中井哲弥
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中井哲弥
;
藤川隆男
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藤川隆男
;
增井卓也
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增井卓也
.
中国专利
:CN1215205C
,2001-10-31
[6]
一种铁电单晶体薄片的制备方法及铁电单晶体薄片
[P].
周成
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周成
;
张存新
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张存新
;
何亮
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何亮
;
李建敏
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李建敏
;
毛伟
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毛伟
;
徐云飞
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徐云飞
;
雷琦
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雷琦
;
罗鸿志
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罗鸿志
;
李小平
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李小平
;
刘亮
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刘亮
;
熊仁根
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熊仁根
.
中国专利
:CN115697019A
,2023-02-03
[7]
通过在浮区结晶单晶体生长单晶体的方法
[P].
G·拉明
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G·拉明
;
L·阿尔特曼绍夫尔
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L·阿尔特曼绍夫尔
;
G·拉特尼科斯
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G·拉特尼科斯
;
M·默勒
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M·默勒
;
F·幕莫勒
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F·幕莫勒
.
中国专利
:CN105714373A
,2016-06-29
[8]
CuInS2单晶体的制备方法和CuInS2单晶体制备装置
[P].
赵岳
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赵岳
;
丁艳丽
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丁艳丽
;
冯月
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冯月
;
王林军
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王林军
;
彭翔
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彭翔
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梁小燕
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梁小燕
;
闵嘉华
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闵嘉华
;
史伟民
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史伟民
.
中国专利
:CN103993355A
,2014-08-20
[9]
单晶制造装置、单晶制造方法及单晶体
[P].
永井邦彦
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永井邦彦
;
小平纮平
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小平纮平
;
田中启之
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田中启之
;
坂本英树
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坂本英树
.
中国专利
:CN1272145A
,2000-11-01
[10]
用于分离单晶体的方法
[P].
R·哈默
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R·哈默
;
M·尤里奇
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M·尤里奇
.
中国专利
:CN101861237A
,2010-10-13
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